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[市場探討] IC顯影劑的回顧與展望

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發表於 2007-8-21 08:37:55 | 顯示全部樓層 |閱讀模式
經濟部技術處ITIS計畫王惠芳
發表日期:8/20/2007 http://www.itri.org.tw/
. v( ~2 v! L8 R
一、前言* ]9 v( {9 p. t5 c9 `
光阻經由照射之後,會產生化學反應,再經由顯影(Developing)的製程將圖案定義在基材上,目前常用的顯影液為TMAH(Tetra methyl ammonium hydroxide) 氫氧化四甲基銨,化學式為(CH3)4NOH。經照射後因照射區與非照射區在顯影液中溶解度不同,顯影液可將易溶的部份溶解,而達顯影的目的,當光阻為正型時,照射區產生化學反應,主鍵斷鍵並發生極性變化,非照區則不易溶解於顯影液中,溶解速率可達十倍以上,負型光阻則是照射區產生交連,不易溶解於顯影液中,與正型光阻之反應相反。顯影液(Developer)為TMAH原液與超純水稀釋後所製成之產品,產品純度由TMAH原液以及超純水品質決定,為此超純水的製造以及TMAH原液製造方法的不同,將影響製品品質之純度,因此,目前的供應來源仍以國外技術來源居多。g-line、i-line以及DUV光阻所需的顯影液普遍是2.38%TMAH(統稱NMD-3),特殊需求會再做客製作的調整或是面板廠內部自行調整。: o  I- X8 R  H# u0 U; f
二、日本與台灣IC顯影液需求
( x1 o/ O2 C% B% L# d日本國內主要是三大公司瓜分,東應化TOK、多摩化學以及日本德山Tokuyama各佔有三分之一的市場,提供給IC半導體用的數量為6000噸,市場約為日幣17億元,這三家供應商同時也是LCD顯影液的主要供應來源。
3 G$ j/ z; |' C" S供應給IC顯影劑的廠商也是以東應化TOK,多聯,日本德山Tokuyama為主,其中以TOK市佔率最高,佔有50%以上的市場。2006年顯影劑市場需求約有40000噸,市場值在12.1億左右,預估2007年隨著12吋晶圓擴廠,需求跟著上升,預估成長10%左右。
! j" r9 i7 X$ Q1 H9 ], J
表一 2006年日本及台灣顯影劑的市場規模
8 X# a9 `; W. v9 ]
區域
濃度基礎
需求量(噸)
需求值
國內/國外供應商
日本

" z$ S6 U/ g% d: U, Q* J0 z+ m
~20%
) ]5 ~; z  T8 j4 ]
6000
6 X4 H8 f, {3 s  K
日幣17億元

# O/ V; Q* k" |' I
TOK,多摩,Tokuyama
台灣

% o9 y6 L- @5 F% k2 n3 Z0 D
10~25%
  }+ W) t8 \: C$ ?
40000

# W' K! L9 u4 L7 Y- |$ h
台幣13億元

* C4 I3 [5 {% t+ o8 Z7 V' B
TOK,多聯,Tokuyama
( ]9 P& S& O# a5 r
資料來源:富士經濟2007/03;工研院IEK2007/08

/ K% _' t0 J$ B& E由於顯影液的需求量大,單位售價也較光阻低,競爭激烈,因此供應商考量成本以及直接供應國內面板廠,普遍皆在國內設立製造廠,或與本土業者合作生產。TOK與長春化學技術合作,生產化學品供應半導體及光電產業,多聯由三聯科技與日本多摩化學(TAMA)合資成立,跨國合作成立專業化學廠,日本德山Tokuyama則在台灣尚無技術合作夥伴。5 M; R' @. B  w0 U) l5 ^* T4 w3 S
國內本土產業投入製作顯影液,一方面需投入高成本購買純化設備,另一方面須有自己的專利技術,再加上目前每公斤單價以相當低廉,須有足夠的資源及技術,再投入會比較合適些,最合適的策略就是與國外知名大廠進行技術合作,既有成熟技術為後盾也既有客源,屬WIN-WIN的合作模式。
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