Chip123 科技應用創新平台

 找回密碼
 申請會員

QQ登錄

只需一步,快速開始

Login

用FB帳號登入

搜索
1 2 3 4
查看: 8951|回復: 15
打印 上一主題 下一主題

[問題求助] λ -base esign rules中有些規則不懂 想請教謝謝^^

  [複製鏈接]
1#
發表於 2007-10-24 11:17:46 | 顯示全部樓層
有些問題必須從半導體製程去解釋,比方說,
" E+ q+ D8 Q# U7 {+ s- J; I=====================================================
: W6 t; ]5 `3 kEpd>=2λ  :閘poly需超過diffusion的最小長度。若不超過話,在diffusion  or  Implant  source/drain時,將使source/drain因為" j, e8 S. P; ~5 V- q
                 diffusion overlap而短路。
8 m0 r  l7 I, z% ]=====================================================' x( I0 ~* e, H$ b+ J. ]% P' N$ k0 ]2 J% t
上述應該指的是endcap,如果layout上的poly是突出diff的,實際上製程廠做出來的型狀,是會往後縮,並且尾
% o: Z2 z: ]/ f  k端呈圓弧狀,為了避免poly縮進diff中,而造成s跟d導通,所設定的rule.
6 A$ N# ]) ^) c. B) p/ p' m當然有些比較特殊的mos不在此限,比如說可變電容之類.
& Y( }- i+ C) r/ t' `+ G7 R7 ]妳把poly也就是gate當成一個控制s跟d的開關,也就不難理解了,妳後面所說的diff短路應該是指這個吧.
您需要登錄後才可以回帖 登錄 | 申請會員

本版積分規則

首頁|手機版|Chip123 科技應用創新平台 |新契機國際商機整合股份有限公司

GMT+8, 2024-5-15 07:43 AM , Processed in 0.102013 second(s), 16 queries .

Powered by Discuz! X3.2

© 2001-2013 Comsenz Inc.

快速回復 返回頂部 返回列表