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新思科技Design Compiler 2010讓合成(Synthesis)、佈局與繞線(Place and Route)等設計效率倍增0 Z1 J+ }3 k1 L- Q5 g6 \6 B
設計佈局(layout)、平面佈局(floorplan)之關聯性(correlation)可達5% 而其多核心技術(multicore technology)可創造雙倍執行速率(2X faster runtime)
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1 o$ @& U( E; ?, Z% U5 {- S (台北訊) 全球半導體設計製造軟體暨IP領導廠商新思科技(Synopsys)近日發表在Galaxy實作平台(Galaxy™ Implementation platform)運作的最新RTL合成(synthesis)創新解決方案--Design Compiler® 2010,可以有效提升合成(synthesis)與實體實作 (physical implementation) 流程達雙倍之效率(twofold speedup)。$ `, J9 {2 {0 k9 j
! X' Y1 B' N0 K3 j3 ?( F" V4 Z為在緊迫時程內完成日益複雜的IC設計,工程師需要一套能協助他們將迴圈週期(iteration)降至最低以加速實體實作的RTL合成解決方案。面對上述需求,Design Compiler 2010採用拓樸繪圖技術(topographical)進而開發出一套創新的佈局繞線(place-and-route)產品—IC Compiler實體指南(physical guidance),不但能將時序(timing)及面積(area)之關聯性(correlation)縮小至百分之五,同時能加速IC Compiler的佈局階層(placement phase)達1.5倍。而新的功能讓RTL設計人員在合成環境中進行平面佈局探究(floorplan exploration)時,有效達成最佳的佈局配置。此外, Design Compiler針對多核心處理器所配置之新型可擴充基礎架構(scalable infrastructure),在四核心(four cores)執行時可達成兩倍合成執行速率(2X faster synthesis runtimes)。
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9 U4 t$ w, H, z) x: w8 ? f瑞薩科技DFM暨數位EDA技術部門經理Hitoshi Sugihara表示:「降低設計時程與強化設計效能對維持我們的市場競爭力非常重要。有了新增的拓樸繪圖技術實體指南,我們在Design Compiler與IC Compiler間的運算關聯性可降低至百分之五,且在IC Compiler中達成近兩倍速的佈局,並有效提升設計時程。我們運用Design Compiler提供的創新技術將迴圈週期降至最低,在更短的時程內達成設計目標。」 |
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