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說明:8 i$ C8 f, L& J; O' u A
因應半導體技術邁入65奈米時代,設計複雜度日益提升,IC設計公司面臨許多設計挑戰;因此,思源科技特別邀集業界領導者與學界精英共聚一堂,以Design Challenges Moving Into 65nm為主軸,深入探討電子設計自動化工具的創新想法及新穎技術。5 m; \( R. H/ v- N, d
% z9 l" J0 a% k0 p7 u- J主題議程:
0 ]# h$ {5 x1 r/ ~5 SESL電子系統層級設計
/ A4 O: S) v7 F* T' V* [1 BAnalog Design 類比設計
8 W3 _( Y* {6 M. BDFM 可製造性設計 + L# ~/ c& r6 ?( }- R" j
System Verification 系統驗証 4 V- K- J) v1 I6 f! L9 a
' O: |0 T6 B. S' g2008年5月7日(三) 9:00am - 4:00pm,台北晶華酒店3樓 0 }- r i. p+ ?7 |5 l. R, l1 ^
( C0 B8 I) @& c p# H/ y$ S# q主辦單位:思源科技
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