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回復 7# marvel321
; O( h& J# P! k) \- q% I4 k. d. ~8 Z/ HDear,您的观点和我之前的理解的非常接近,但是这个才是我开始疑惑的原因。
! r: }: \& p$ E- s7 g# X, T9 L2 k, ?& U这个问题很多人遇到过.通过改善措施可以提高ESD LEVE,所以应用中可以避免回答这个问题。但是据我所知产生原因从来没有被清晰的解释。
, t( ~: P( p5 V+ r0 p搜集到的可能的解释有:8 i; H+ o3 ^* _9 n- C9 `4 N
# b! j' ~6 |. y* S( a1:“能量”传输接入点不同,一者是从VSS-PIN,一者是PIN-VSS(可能来自传输线理论,但是没有更详细的说明)1 e% J3 q( j* ]+ _) L
2:从两个不同测试,不同端口看,电路拓扑结构不同9 r E$ A5 |7 S& T" f, p
3:机台测试电路与测试模型是有差异的,差异导致不同
. b7 a/ u- ?# a+ X$ L4:浮栅初始电位差异. [ b0 j; q1 N5 T/ C: ~! e& }
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对于1,缺乏更完善描述问题的资料,不理解。
/ Y3 p0 T8 k8 T! H) V, O( q1 j4 d! g对于2,虽然拓扑不同,但是各个节点压差并无差异,会引起损坏不同吗?
`9 P3 J. ^# z& a7 g# \: k& Y: _对于3,缺乏资料,待验证
8 _8 m# \& f3 w4 s对于4,我最认可的答案
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" m* U( c% `3 V: ?! `* H但是
) _- ]7 [8 j& K若ESD Devices Gate 与source未连接到一起,marvel sir描述的问题的确存在,而且的确是两者不同之处;甚至可能会由于锁定电路导致逻辑,Gate电压差异,如果这些电路加入在ESD控制部分,也可能导致差异,这些问题都曾经发生过。% d" U+ Z+ _8 Y I; T1 n
但是我们在ggmos中,未含有SR锁存器的情况下,依然遇到这种问题,则很难解释。
# q. A% l- ~- M5 s H4 ?% s+ y. ?我们也对这种情况做了仿真模拟,事实上,即使把Gate上寄生电容电阻(包括线电容,线电阻)增大10倍,在脉冲发生时候,Gate电位在小于1纳秒左右即被重置,影响甚微。9 d& u+ f! i1 e
而EMMI也依然证实ESD Device 挂掉了,使得之前的理论无法解释实验。姑且吧责任归结于机台了。. _7 v. M+ Z( | s S% w
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问题搁置很久了,感谢marvel321 sir,这个差异应当是确切而且贴近题目的。
4 W, H6 b3 s- m: C# \+ Z* H0 S其它讨论也很有意义,但是还没有很明确证实对ESD 测试的影响
A, a$ u" O1 |; J$ U6 {悬赏结束,但是还希望大家能继续关注这个问题,把好思路Share出来~,完善这个问题点。 |
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