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[經驗交流] 懸賞100RDB:求解HBM VSS-PIN ZAP負電壓 與 PIN-VSS ZAP正電壓的區別?

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發表於 2011-12-30 10:35:30 | 只看該作者 回帖獎勵 |正序瀏覽 |閱讀模式
100Chipcoin
本帖最後由 CHIP321 於 2011-12-30 10:37 AM 編輯 * h; W: D  [3 y' x
& r: _$ l" h, l1 ~2 i
多次測試中 5 c3 U# y0 j" C# Y2 ?4 t/ T
---------------------------------------------------------------------------------------------------------------
8 X- n& i1 N) F3 H3 s
, A9 M& l* F. A
! ~% w4 S; J8 t; u' eVSS-〉PIN ZAP負電壓 與 PIN-〉VSS ZAP正電壓,測試結果有很大差異(2000v以上)。2 `0 x$ S% p7 Z- y* W- r

, ?4 |7 @% ~7 _疑惑很久了,也見過別的朋友提出過這個問題,誠心求解
" T8 v& o* _( N' f1 A& Z4 p
( A) ]2 p4 X! Z2 H1 ~& O9 Z
----------------------------------------------------------------------------------------------------------------
; T' Q! K# c7 M* kPS:+ _- v* r+ F5 f4 ]7 Q% j
1假設電路結構是模擬+邏輯電路,無SR
6 x7 J  o  i5 C" V- s2已經做HBM仿真模擬,各個node又具備完全一致電壓差,電流值
8 \5 D+ h" i3 t3考慮初始值,但是在HBM發生后1ns,左右很快會被上升電壓Reset
( @; p) u' E0 ]' a/ Y* y, W0 u; A9 i. P# [( W! S  T, Q$ B; W

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我的理解如下,希望LZ采纳: 假定在线路中有一个MOS管,Drain接到Pin,Source,Sub接到Vss,Gate接到内部电路。 假定初始状态整个电路处于0电位, Pin-Vss正电压时,Drain端电位升高,由于Gate到Drain之间寄生电容的影响,Gate仍处于低电位,因此该MOS管处于关断状态; Vss-Pin负电压时,Source,Sub电位降低,由于Gate到Source,Sub寄生电容影响,Gate处于高电位,,此时MOS管处于开启状态; 如此,在两种测试方式下,MOS管的状 ...

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17#
 樓主| 發表於 2012-6-5 14:27:55 | 只看該作者
回復 7# marvel321 5 ]; f( g; q) L% X6 f
Dear,您的观点和我之前的理解的非常接近,但是这个才是我开始疑惑的原因。
$ N& {% ?9 K/ T0 {* y这个问题很多人遇到过.通过改善措施可以提高ESD LEVE,所以应用中可以避免回答这个问题。但是据我所知产生原因从来没有被清晰的解释。
4 O7 X8 l7 d% w! ]4 U搜集到的可能的解释有:
+ o- o- ?0 I$ h, w5 k0 R0 y0 {+ p5 z0 \1 r7 w1 g# D
1:“能量”传输接入点不同,一者是从VSS-PIN,一者是PIN-VSS(可能来自传输线理论,但是没有更详细的说明)9 d: ^9 z  h, a* ?. M$ n
2:从两个不同测试,不同端口看,电路拓扑结构不同
$ N$ f7 N, M- g+ ]5 |8 g7 [) g3:机台测试电路与测试模型是有差异的,差异导致不同% |1 b0 r7 C( P. F$ I! |- s: s+ |) {
4:浮栅初始电位差异
1 |3 l  h; Z' Y4 h( r, }2 C8 x' `# O8 ~
对于1,缺乏更完善描述问题的资料,不理解。
& T/ d2 y: \1 s( i对于2,虽然拓扑不同,但是各个节点压差并无差异,会引起损坏不同吗?
* q$ J* o/ T( M& u5 \3 W9 U1 q对于3,缺乏资料,待验证" m7 E' t2 ?8 n; G% M6 q
对于4,我最认可的答案
1 @0 u' m& f) d2 G: ^, t+ E- L" W) U: w
但是6 _2 y9 v4 e+ f4 K
若ESD Devices Gate 与source未连接到一起,marvel sir描述的问题的确存在,而且的确是两者不同之处;甚至可能会由于锁定电路导致逻辑,Gate电压差异,如果这些电路加入在ESD控制部分,也可能导致差异,这些问题都曾经发生过。* }7 Z* `% E5 _1 m) f
但是我们在ggmos中,未含有SR锁存器的情况下,依然遇到这种问题,则很难解释。7 O1 i8 F* Q  O
我们也对这种情况做了仿真模拟,事实上,即使把Gate上寄生电容电阻(包括线电容,线电阻)增大10倍,在脉冲发生时候,Gate电位在小于1纳秒左右即被重置,影响甚微。. b' C, ^' w& _! G0 ~5 ?% l3 _( r
而EMMI也依然证实ESD Device 挂掉了,使得之前的理论无法解释实验。姑且吧责任归结于机台了。4 Q8 _# d$ J: H9 a" T1 d' Z
6 D: B: w& `1 T4 O/ q; x
问题搁置很久了,感谢marvel321 sir,这个差异应当是确切而且贴近题目的。
5 U9 F- K; C7 E2 w- |其它讨论也很有意义,但是还没有很明确证实对ESD 测试的影响
" _0 W  b& ~+ i悬赏结束,但是还希望大家能继续关注这个问题,把好思路Share出来~,完善这个问题点。
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16#
發表於 2012-3-7 13:58:03 | 只看該作者
沒辦法畫圖, 大家聯想一下或者自己畫張圖,. s% w' R# t% M+ q2 W2 Q
' H! t5 D, k7 |  F
舉例GGNMOS single device for HBM test
! C5 ^# p/ B# w" Y+ Donly 2 pin (I/O and GND)8 x- F: O% y: p/ Z6 M' V, X0 \. }, y

7 s& E8 M4 `/ w* Q- d5 Z' o, }+ NGGNMOS (drain-I/O; source & gate & sub - GND)2 M/ @0 Z! |& }  s- g- g
記住ESD一個重要rule, drain contact spacing會放大,
4 k7 O7 @4 ]0 s( d8 P+ ^  y
. w) b! h" S. [0 ?0 o; \假設從drain(I/O)打正電壓, 因為cont rule有放大,HBM pass 3K* _8 s. E" r  ^/ ^  c2 B
反之, 從GND打負電壓, source cont rule沒有放大, 所以HBM<2K1 s4 ?5 d" r$ H) }
; z2 j4 S% x1 C  A
這是最簡單的情況下說明了, 如果是circuit, path更多更複雜,
" i8 P# R/ v& V9 j, f2 E1 }要考慮可能反過來打負電壓其實是沒有ESD bypass path~
% H" {5 ~( b. ?( O* }
7 [( V, p7 a- i4 x' D* q/ k(這樣大家知道為何會有差異了嗎? 各位先進也可以提出其他看法)
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15#
發表於 2012-2-12 13:40:29 | 只看該作者
看以前这个帖子发现同样的类型问题,可以参考一下,希望Lz能共享事情发展的进展!!!
! F) t7 A" `7 Y; Phttp://bbs.innoing.com/thread-11817298-1-5.html
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14#
發表於 2012-2-11 11:45:16 | 只看該作者
应该是接地线的分布参数的问题我猜
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13#
發表於 2012-2-11 11:44:34 | 只看該作者
多次測試中
: L3 i% |5 W2 s5 e3 ~+ i---------------------------------------------------------------------------------------- ...9 ~0 j' Z* m  a/ j6 i
CHIP321 發表於 2011-12-30 10:35 AM
. P! m/ e9 I% }* @) |' s

! _+ X6 Q! Q$ g* s  A9 V5 q9 O看似相同的注入出现不同的结果,好奇怪,测试点的对称性
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12#
發表於 2012-1-31 11:22:13 | 只看該作者
首先要先考慮電路佈局的問題: 1. 是否有其他寄生元件3 Y( h& ^' _  f0 h; U4 b
                                                            2. Junction順逆偏造成的差異
$ h! K* m1 I* g/ k; q" t( A* W! E: j* x% N. A- b6 B7 \5 K9 p6 J
再者如果是單顆元件應該有接近的HBM level
+ {) r0 R. F2 Z! X' _如果是複雜電路應該要以最小值來估算, 這才是這個電路真正的HBM level.
  g/ p7 @& r) B$ l) i
1 V9 u  s$ N0 M& ?( j0 w) m# D但是仍要考慮該電路實際應用面,是否會有遇到VSS-PIN負電壓的情況~ 2 L  P9 i& `! x
system level有時可以排除很多在chip level遇到的情況.
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11#
發表於 2011-12-30 10:35:31 | 只看該作者
我的理解如下,希望LZ采纳:( ]: ]9 V' @' p% y2 ^" k

2 [0 H; o/ K* J2 S2 V假定在线路中有一个MOS管,Drain接到Pin,Source,Sub接到Vss,Gate接到内部电路。
0 r9 h! K' g: G: B3 u假定初始状态整个电路处于0电位,, E" D0 `- l, w7 D9 y& w
Pin-Vss正电压时,Drain端电位升高,由于Gate到Drain之间寄生电容的影响,Gate仍处于低电位,因此该MOS管处于关断状态;
6 K$ V% v5 y. X; \! j8 ?8 D1 [' \Vss-Pin负电压时,Source,Sub电位降低,由于Gate到Source,Sub寄生电容影响,Gate处于高电位,,此时MOS管处于开启状态;
+ k5 R# Q2 l7 @7 m' g8 r9 G7 Z* P* S4 O* f/ h4 x" S! X8 @
如此,在两种测试方式下,MOS管的状态不同,也就造成HBM结果不同。
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