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沒辦法畫圖, 大家聯想一下或者自己畫張圖,. s% w' R# t% M+ q2 W2 Q
' H! t5 D, k7 | F
舉例GGNMOS single device for HBM test
! C5 ^# p/ B# w" Y+ Donly 2 pin (I/O and GND)8 x- F: O% y: p/ Z6 M' V, X0 \. }, y
7 s& E8 M4 `/ w* Q- d5 Z' o, }+ NGGNMOS (drain-I/O; source & gate & sub - GND)2 M/ @0 Z! |& } s- g- g
記住ESD一個重要rule, drain contact spacing會放大,
4 k7 O7 @4 ]0 s( d8 P+ ^ y
. w) b! h" S. [0 ?0 o; \假設從drain(I/O)打正電壓, 因為cont rule有放大,HBM pass 3K* _8 s. E" r ^/ ^ c2 B
反之, 從GND打負電壓, source cont rule沒有放大, 所以HBM<2K1 s4 ?5 d" r$ H) }
; z2 j4 S% x1 C A
這是最簡單的情況下說明了, 如果是circuit, path更多更複雜,
" i8 P# R/ v& V9 j, f2 E1 }要考慮可能反過來打負電壓其實是沒有ESD bypass path~
% H" {5 ~( b. ?( O* }
7 [( V, p7 a- i4 x' D* q/ k(這樣大家知道為何會有差異了嗎? 各位先進也可以提出其他看法) |
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