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[經驗交流] 懸賞100RDB:求解HBM VSS-PIN ZAP負電壓 與 PIN-VSS ZAP正電壓的區別?

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1#
發表於 2011-12-30 10:35:30 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
100Chipcoin
本帖最後由 CHIP321 於 2011-12-30 10:37 AM 編輯
5 l- H& m2 u2 U8 t9 g1 r
; N( X. s+ y# B1 q& r! l$ A多次測試中
+ c, M0 {' ~+ d8 Y  E/ Z/ x---------------------------------------------------------------------------------------------------------------& Y$ |& [, V, Z1 E: }, J
2 ?5 N4 ?9 }8 J& U! d3 Z
  M0 s/ O5 s3 y
VSS-〉PIN ZAP負電壓 與 PIN-〉VSS ZAP正電壓,測試結果有很大差異(2000v以上)。
6 P7 ?7 P5 m4 O9 s+ h+ Z' z# p. H" C; G$ |
疑惑很久了,也見過別的朋友提出過這個問題,誠心求解
" p, j& k9 [! y. @$ h1 N, ~7 Y
# t  U# W% e0 G' u6 d- ^
----------------------------------------------------------------------------------------------------------------+ y- |0 X# s( ^$ q4 }# h1 j: [
PS:! J; V( P- I2 V; r9 Z
1假設電路結構是模擬+邏輯電路,無SR0 j- \4 X* z- w/ T4 A: s
2已經做HBM仿真模擬,各個node又具備完全一致電壓差,電流值+ M& k! f* V, p+ y) a
3考慮初始值,但是在HBM發生后1ns,左右很快會被上升電壓Reset, J. }# h8 |; v) `1 k) \

! @' @4 ?9 T% s5 N

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我的理解如下,希望LZ采纳: 假定在线路中有一个MOS管,Drain接到Pin,Source,Sub接到Vss,Gate接到内部电路。 假定初始状态整个电路处于0电位, Pin-Vss正电压时,Drain端电位升高,由于Gate到Drain之间寄生电容的影响,Gate仍处于低电位,因此该MOS管处于关断状态; Vss-Pin负电压时,Source,Sub电位降低,由于Gate到Source,Sub寄生电容影响,Gate处于高电位,,此时MOS管处于开启状态; 如此,在两种测试方式下,MOS管的状 ...

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2#
發表於 2011-12-30 10:35:31 | 只看該作者
我的理解如下,希望LZ采纳:
9 o4 m& p5 P$ y* K
! ^& S! ]1 X" `0 N; @9 v7 g8 B假定在线路中有一个MOS管,Drain接到Pin,Source,Sub接到Vss,Gate接到内部电路。
* r& z& t6 B1 J" O0 [假定初始状态整个电路处于0电位,$ }0 l  m: g% w, W( A% }
Pin-Vss正电压时,Drain端电位升高,由于Gate到Drain之间寄生电容的影响,Gate仍处于低电位,因此该MOS管处于关断状态;
. {6 _  D3 l4 O% O- D8 l! DVss-Pin负电压时,Source,Sub电位降低,由于Gate到Source,Sub寄生电容影响,Gate处于高电位,,此时MOS管处于开启状态;) E" }# K8 X; k! }

. H4 @4 Q" A9 b3 W: c如此,在两种测试方式下,MOS管的状态不同,也就造成HBM结果不同。
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3#
發表於 2012-1-31 11:22:13 | 只看該作者
首先要先考慮電路佈局的問題: 1. 是否有其他寄生元件  {% e7 m& t9 n: \3 z1 N* V5 ~
                                                            2. Junction順逆偏造成的差異
) x% Y, d( @! l0 q3 v6 a. R- b- J5 S6 h4 }
再者如果是單顆元件應該有接近的HBM level  s, q8 ]7 Y' V7 H. u+ S5 _
如果是複雜電路應該要以最小值來估算, 這才是這個電路真正的HBM level.8 I2 o1 R+ F; F& @
' e3 H$ l" r/ S# L# S
但是仍要考慮該電路實際應用面,是否會有遇到VSS-PIN負電壓的情況~
& i, l) z, S; Psystem level有時可以排除很多在chip level遇到的情況.
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4#
發表於 2012-2-11 11:44:34 | 只看該作者
多次測試中
$ |, A- d3 C8 Y! N- e---------------------------------------------------------------------------------------- ...
# o! Y# f( Y) a- T  jCHIP321 發表於 2011-12-30 10:35 AM

9 @  c6 N9 o2 P7 }
+ ~+ F( E4 Y8 H+ U8 v看似相同的注入出现不同的结果,好奇怪,测试点的对称性
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5#
發表於 2012-2-11 11:45:16 | 只看該作者
应该是接地线的分布参数的问题我猜
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6#
發表於 2012-2-12 13:40:29 | 只看該作者
看以前这个帖子发现同样的类型问题,可以参考一下,希望Lz能共享事情发展的进展!!!" r. ]8 q9 O- x  `0 s
http://bbs.innoing.com/thread-11817298-1-5.html
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7#
發表於 2012-3-7 13:58:03 | 只看該作者
沒辦法畫圖, 大家聯想一下或者自己畫張圖,
+ O9 q* V* R  q, K* @- E/ l
- ~# w. G" b/ l+ s' X) i舉例GGNMOS single device for HBM test
# T: ], A2 N# Xonly 2 pin (I/O and GND)& p/ Q1 M( X7 ?; f

/ ~0 C  u2 A& A; c% X) P' C$ [9 N. zGGNMOS (drain-I/O; source & gate & sub - GND)
3 L9 e- n5 q) e記住ESD一個重要rule, drain contact spacing會放大,6 t+ l% c! B2 b, c
" p( y: O' A2 v
假設從drain(I/O)打正電壓, 因為cont rule有放大,HBM pass 3K
/ H' c2 s+ Q+ D7 f' b& i2 W反之, 從GND打負電壓, source cont rule沒有放大, 所以HBM<2K
& O5 U" _4 O  c- l/ K' H( B. X# H
這是最簡單的情況下說明了, 如果是circuit, path更多更複雜, 8 z$ h3 A9 T# s7 ^2 S: k
要考慮可能反過來打負電壓其實是沒有ESD bypass path~( r2 G& x+ n. b8 J7 }
; g( [- F$ M  U
(這樣大家知道為何會有差異了嗎? 各位先進也可以提出其他看法)
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8#
 樓主| 發表於 2012-6-5 14:27:55 | 只看該作者
回復 7# marvel321 ; a# J$ m! n& Z4 S8 |! w9 ]
Dear,您的观点和我之前的理解的非常接近,但是这个才是我开始疑惑的原因。
; h* U1 d5 Z& g! c这个问题很多人遇到过.通过改善措施可以提高ESD LEVE,所以应用中可以避免回答这个问题。但是据我所知产生原因从来没有被清晰的解释。
  W) ~) f. A- o) r3 O: Y搜集到的可能的解释有:9 U: U0 R' |4 T7 Y0 o6 ^

% r- a: i# H6 T( L( n! g$ d% |1:“能量”传输接入点不同,一者是从VSS-PIN,一者是PIN-VSS(可能来自传输线理论,但是没有更详细的说明)
$ B3 N7 I+ b; N; N. \2:从两个不同测试,不同端口看,电路拓扑结构不同
# c3 D4 F' S0 q: T3:机台测试电路与测试模型是有差异的,差异导致不同* `/ G; E) K7 G# J% F
4:浮栅初始电位差异7 h: d0 Y/ V% t3 y" a+ }* L

- w9 E" H5 s0 |0 b3 Q/ e; H; b对于1,缺乏更完善描述问题的资料,不理解。
5 a+ N; h* w: g3 D% [: j0 x; y对于2,虽然拓扑不同,但是各个节点压差并无差异,会引起损坏不同吗?
* G, i' ]; e  `对于3,缺乏资料,待验证' K, c  ~7 z% S8 o
对于4,我最认可的答案
5 U4 Q- V) J+ v* H2 |5 N. E4 Y# ?( h- v/ A' n5 @# q
但是
3 n" P. k) B& V% {+ m0 t6 N0 O8 Q若ESD Devices Gate 与source未连接到一起,marvel sir描述的问题的确存在,而且的确是两者不同之处;甚至可能会由于锁定电路导致逻辑,Gate电压差异,如果这些电路加入在ESD控制部分,也可能导致差异,这些问题都曾经发生过。
+ T% C: }7 z. n但是我们在ggmos中,未含有SR锁存器的情况下,依然遇到这种问题,则很难解释。
- C2 N8 v' N' W我们也对这种情况做了仿真模拟,事实上,即使把Gate上寄生电容电阻(包括线电容,线电阻)增大10倍,在脉冲发生时候,Gate电位在小于1纳秒左右即被重置,影响甚微。1 a% g  L+ }& O0 i, x' _& c/ {
而EMMI也依然证实ESD Device 挂掉了,使得之前的理论无法解释实验。姑且吧责任归结于机台了。
2 N& j0 S. Z9 P3 {) W4 F  T' }8 y# v$ t% s" T$ i+ ]
问题搁置很久了,感谢marvel321 sir,这个差异应当是确切而且贴近题目的。
+ _0 K. `: [- X其它讨论也很有意义,但是还没有很明确证实对ESD 测试的影响) n! d. Q6 F1 _2 I2 X2 u( ]6 g
悬赏结束,但是还希望大家能继续关注这个问题,把好思路Share出来~,完善这个问题点。
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