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沒辦法畫圖, 大家聯想一下或者自己畫張圖,
+ O9 q* V* R q, K* @- E/ l
- ~# w. G" b/ l+ s' X) i舉例GGNMOS single device for HBM test
# T: ], A2 N# Xonly 2 pin (I/O and GND)& p/ Q1 M( X7 ?; f
/ ~0 C u2 A& A; c% X) P' C$ [9 N. zGGNMOS (drain-I/O; source & gate & sub - GND)
3 L9 e- n5 q) e記住ESD一個重要rule, drain contact spacing會放大,6 t+ l% c! B2 b, c
" p( y: O' A2 v
假設從drain(I/O)打正電壓, 因為cont rule有放大,HBM pass 3K
/ H' c2 s+ Q+ D7 f' b& i2 W反之, 從GND打負電壓, source cont rule沒有放大, 所以HBM<2K
& O5 U" _4 O c- l/ K' H( B. X# H
這是最簡單的情況下說明了, 如果是circuit, path更多更複雜, 8 z$ h3 A9 T# s7 ^2 S: k
要考慮可能反過來打負電壓其實是沒有ESD bypass path~( r2 G& x+ n. b8 J7 }
; g( [- F$ M U
(這樣大家知道為何會有差異了嗎? 各位先進也可以提出其他看法) |
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