本帖最後由 tk02561 於 2014-4-9 12:22 PM 編輯
! B: k) R! n' P3 m/ c9 g1 @2 G+ J3 a/ N2 d9 K8 g7 Z* @ P
表一、 全球前十大半導體製造設備廠營收排名初步統計結果(單位:百萬美元)5 _, ~" _7 n% W* j) L5 S
2013排名
- i/ x! t" Z5 ]6 f9 H | 2012
) l6 M4 \: J/ ?; n2 w' k排名
/ X8 m8 z5 I0 b3 D" }4 } | 廠商 | 2013年 營收 | 2013年 市占率(%) | 2012年 營收 | 2012-2013 年成長率(%) | 12 `" B2 O& q/ }; Z( [! L
| 1/ f- S0 \% \# v3 F0 l0 X
| 應用材料公司 | 5,460.1 | 16.2 | 5,513.4 | -1.0 | 2
- K) B$ Q, F* u' w. ` | 2; x. n; O$ T2 G8 l
| 艾司摩爾ASML | 5,302.8 | 15.7 | 4,887.5 | 8.5 | 3; L# k& ]. v+ Q
| 4
' _, K/ Q6 `: q3 e* R, }+ K. B | 科林研發 Lam Research | 3,163.4 | 9.4 | 2,805.7 | 12.7 | 4
# M3 \& @1 R; @: A | 3& W7 X% y) o: n2 N' t
| 東京威力科創 | 3,057.1 | 9.1 | 4,219.0 | -27.5 | 5( k7 P% c* y, h+ q- b
| 5/ ^ ?4 X+ R% a- Q3 G3 |/ O
| 科磊KLA-Tencor | 2,163.4 | 6.4 | 2,463.5 | -12.2 | 6
! R; |0 o7 p1 T5 x( p0 o | 67 I% }7 b q. L
| Dainippon Screen | 1,222.7 | 3.6 | 1,483.6 | -17.6 | 7
$ K0 B2 y$ w/ Z) w! v | 8; z# O1 D, q! k1 I4 k) d' T
| 日立先端科技 | 862.0 | 2.6 | 1,137.7 | -24.2 | 80 F! z# x, T1 b% Y2 [4 k
| 7' z. G8 d1 X. `7 `6 q( n. r
| 愛德萬Advantest | 844.8 | 2.5 | 1,423.4 | -40.6 | 9* p0 h8 @ f; h6 z1 R. u) g% f6 c
| 117 n3 d6 U0 ~( j; x2 k+ ~3 T
| 泰瑞達 | 822.0 | 2.4 | 917.6 | -10.4 | 10
; h+ R7 g; ?/ y8 M9 Y# m | 91 w, L3 j# d4 L/ q2 u
| Nikon | 636.3 | 1.9 | 1,006.8 | -36.8 |
W! d+ ]) R, {8 m# }4 E |
8 p* i+ M2 R" F3 s: V/ @* ?: t& Z | 其他 | 10,243.5 | 30.3 | 12,296.1 | -16.7 |
) Q) p# E1 m' f6 U$ a) p |
! p1 g% K1 Z# [% R) X | 總計 | 33,778.0 | 100.0 | 38,154.2 | -11.5 |
資料來源:Gartner (2014年4月)
+ r8 x! {3 Y4 s& z+ B5 o/ {, TRinnen指出:「值得注意的是,前十大廠商的市占率更進一步成長到70%,反觀2012年為68%。前五大廠商即占了將近全部市場的57%,較去年成長五個百分點。這些大廠的進展象徵小廠在競爭當中失利,同時也意味著設備市場越來越依賴少數幾家廠商。」
; o! |5 d! c& m+ D4 M* i2013年,晶圓級製造的表現優於市場,在乾式蝕刻、微影、製程自動化以及沈積方面顯得相對強勁。支出選擇性集中於升級與採購最新技術,產能增加很少。邏輯支出則集中於20奈米/14奈米製程的準備。僅少數子領域出現成長,最明顯的是微影領域的步進機(stepper)、非管式(nontube)化學氣相沈積法(CVD)、導體蝕刻(conductor etch)、快速熱處理與熱爐,以及某些製程控制領域(如晶圓檢測、瑕疵審核與分類)。
& H. M4 s# o' {5 @5 N在後端製程領域,所有主要類別皆呈大幅衰退。2013年第四季尤為遲緩,因為主要半導體封裝和測試服務(SATS)大廠皆因市場不確定性而推延訂單。 |