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東芝在四日市啟動5號半導體製造廠二期建設
)東京--(美國商業資訊)--東芝公司(Toshiba Corporation)(TOKYO:6502)今天為Fab 5二期開工建設舉行了奠基儀式。Fab 5是東芝最先進的製造廠(晶圓廠),位於三重縣四日市業務部(Yokkaichi Operations)記憶體工廠內。
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東芝將對Fab 5進行擴充,以保證採用新一代製程技術打造的NAND快閃記憶體及3D記憶體的製造空間。該專案將於明年夏季完成,設備投資及生產水準將視市場動向而定。
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四日市業務部的三家晶圓廠目前正在量產NAND快閃記憶體,包括Fab 5一期。Fab 5計畫分兩期建造,其中一期專案已於2011年7月投入使用。在對產品供需平衡進行一番仔細衡量,發現智慧型手機、平板電腦和企業伺服器固態硬碟的需求強勁推動產品需求恢復後,東芝預計從中長期來看,市場會繼續擴張,並意識到現在正是擴充Fab 5的最佳時機。
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1 V$ V7 `. D, O8 z2 t展望未來,東芝將利用其在先進製程技術領域的領導地位擴大業務,提高競爭力,並會開發新一代記憶體來滿足市場需求。) d9 z4 O6 i3 v
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Fab 5概況
# ?; R% Q5 P! F大樓結構: 兩層鋼架混凝土結構,大樓共五層
# j7 b+ f: ^* j& K! R地上建築面積: 約38,000m2 : S" `" T8 `* V# I+ Z) f9 e p4 D
總建築面積: 約187,000m2 * P8 u1 H4 R. d7 F% ^5 ]: S; I$ Q. Z
開工時間: 一期:2010年7月 4 z5 L' {- i# J8 g* t5 z
二期:2013年8月
' g6 Q" d4 n; A2 X$ |完工時間: 一期:2011年5月 ) b, H! N; w2 ?* {
二期:2014年夏(目標)- \! c0 l3 g. ] u M) k
投產時間: 一期:2011年7月
( q4 q# L: r) B1 F' F( q二期:將於稍晚確定;主要計畫用於對現有晶圓容量進行技術轉型
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四日市業務部概況
6 q0 a! f. q2 c/ [5 V) ?位置: 800, Yamanoisshiki-cho, Yokkaichi, Mie Prefecture
7 B, g7 @% o2 v0 ~, C2 m1 g4 ~! w成立時間: 1992年1月 $ f9 i% V( p( X' \
總經理: Tomoharu Watanabe , \. M# w# l4 [( J- C3 e8 I7 ?5 C' f
員工數量: 約5,200名 0 P. m% R: ^; @, t6 w; r+ J: j
(截至2013年3月底,東芝的正式員工數量)
# b; B5 B! o# `場地面積: 約436,800 m2 (包括Fab 5) ) D8 Y1 j" T* _7 D; V& V
總建築面積: 約647,000m2 (包括Fab 5) |
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