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家登精密榮獲國家磐石獎與青年創業楷模獎兩項殊榮
其在半導體前段製程設備與光罩相關裝置方面的創新研發能力、以及帶動半導體產業發展的貢獻終獲肯定 ) \5 `( O% |' i% z$ _
3 a. E$ j7 T) v【台北訊.2008年03月10日】——世界領先光罩全方位解決方案供應商家登精密工業股份有限公司(Gudeng Precision Industrial Co., LTD),日前榮獲2007年第十六屆臺灣國家磐石獎以及青年創業楷模獎兩項殊榮的肯定。家登精密成立於1998年,設立初期主要專注在射出模具與高精度零件的製造與設計。自2000年開始,家登精密進入黃光製程領域,致力於半導體前段製程設備與高階光罩儲存、傳輸以及清洗設備的研發,目前已成為此領域的世界第一大製造廠商之一。 % | x* ~/ K) `) j) {' ]
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總部設於臺北縣的家登精密,由董事長兼總經理邱銘乾先生以及副總經理林添瑞先生在1998年3月時成立,取名意喻『家』喻戶曉 – 成為世界級的企業;『登』峰造極 – 擁有世界級的技術。而家登精密過去十年來的發展也的確不負眾望,自行研發出一流的技術與產品,在國際半導體業界與多家大廠合作,品質服務均獲得一致好評,成為首屈一指的半導體前段製程高階設備供應商,目前員工人數達125人。公司成立初期專司模具加工製造,但在第二年時切入半導體前段黃光製程,開始長達一年半黃光微影零組件研究,並於隔年研發成功,讓家登精密有機會與臺灣第一大半導體廠台積電展開維持至今的合作關係。一路走來,家登精密在研發上的成就非凡,為公司的發展史寫下許多傲人的里程碑。2004年8月,與台積電合作研發90奈米製程良率改善之儲存運送製品Reticle SMIF Pod(光罩傳送盒),奠定了家登精密研發團隊在半導體黃光區領域解決方案能力的實績。2006年更開發出光罩清洗機,進而成功切入12吋晶圓廠內為其清洗高階90奈米製程用之光罩,再次成功轉型跨入設備製造。
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在半導體製程中,『黃光微影製程技術』的突破往往決定半導體工業的發展速度,因為空氣中化學污染和微粒問題,會直接影響到晶圓和光罩傳送盒的淨化程度,是各大半導體廠極需解決的問題。家登精密的微污染與靜電防治團隊陣容實力堅強,推出以英國威格斯公司的VICTREX ESD PEEK聚合物為基材的8”晶舟(wafer cassette)。晶舟是放置於晶圓盒內用於承載、傳送和保護晶圓的容器。採用VICTREX ESD PEEK所製造的晶舟,可避免晶圓與晶舟溝槽因摩擦產生靜電放電(Electrostatic Discharge; ESD)而導致電路燒壞或因靜電吸附而導致晶圓遭到污染,以達到降低靜電累積與防護的目的。而其擁有的低發塵量/低析出物,能夠減少晶圓與晶舟溝槽之間的接觸點形成發塵或微粒產生,避免造成晶圓瑕疵。
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+ @# K$ }( S3 F* F: l9 s7 h; I而在其他半導體相關零件方面,家登精密使用VICTREX PEEK聚合物製造8”與12”化學機械研磨環(Chemical Mechanical Planarization Ring; 簡稱CMP環)。VICTREX PEEK擁有耐磨耗特性、低微粒產生、高純度與耐化學性,不但符合化學機械研磨製程中的嚴刻要求,並可延長CMP環在化學機械研磨(或稱晶圓研磨)過程中的使用壽命。因此,採用VICTREX PEEK所製造的CMP環可減少因更換已磨損的CMP環而產生的停工時間,進而降低每個晶圓的生產成本。
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8 q% S: d# d, n0 _家登精密董事長邱銘乾表示:『家登精密自成立以來便以‘價格合理’、‘產品精良’以及‘配合度高’為宗旨,致力於技術與產品的開發,並不斷超越自我,在半導體工業邁向更大晶圓尺寸、更高密度、更嚴苛生產環境的今天,為客戶提供世界級水準的解決方案。此次榮獲國家磐石獎以及青年創業楷模獎,代表家登精密多年來的努力再次受到肯定。放眼未來,我們將持續引進先進的材料和技術,提供具競爭優勢的產品,並不斷開發新型半導體製程設備產品,提高終端用戶的製程良率與協助其降低系統總成本。』
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關於家登精密工業股份有限公司. G* ^3 f3 V& ?( b
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家登精密工業股份有限公司成立於1998年,設立初期從事射出模具與高精度零件的製造與設計。自進入黃光製程領域後,家登精密工業已成為專門為PSM高階光罩提供超清淨光罩運輸/儲存盒及清洗設備的全球最大製造商之一,產品包括光罩傳送盒、光罩盒、CDA/N2氮氣淨化機/櫃及其它相關元件。如需瞭解更多資訊,請參閱公司網站www.gudeng.com。 |
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