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東芝在四日市啟動5號半導體製造廠二期建設
)東京--(美國商業資訊)--東芝公司(Toshiba Corporation)(TOKYO:6502)今天為Fab 5二期開工建設舉行了奠基儀式。Fab 5是東芝最先進的製造廠(晶圓廠),位於三重縣四日市業務部(Yokkaichi Operations)記憶體工廠內。# N3 o2 A( Z" q4 L; v
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東芝將對Fab 5進行擴充,以保證採用新一代製程技術打造的NAND快閃記憶體及3D記憶體的製造空間。該專案將於明年夏季完成,設備投資及生產水準將視市場動向而定。9 w, o' Z0 w8 \+ O' n" Q
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四日市業務部的三家晶圓廠目前正在量產NAND快閃記憶體,包括Fab 5一期。Fab 5計畫分兩期建造,其中一期專案已於2011年7月投入使用。在對產品供需平衡進行一番仔細衡量,發現智慧型手機、平板電腦和企業伺服器固態硬碟的需求強勁推動產品需求恢復後,東芝預計從中長期來看,市場會繼續擴張,並意識到現在正是擴充Fab 5的最佳時機。, h. X6 Z' G9 \6 q0 d) h
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展望未來,東芝將利用其在先進製程技術領域的領導地位擴大業務,提高競爭力,並會開發新一代記憶體來滿足市場需求。3 y# G" e' [) U0 w5 \6 r
& H7 H1 L6 a' VFab 5概況
0 }: ?! T U( t. D( y大樓結構: 兩層鋼架混凝土結構,大樓共五層
% s- |! I2 }7 n3 F! j) e地上建築面積: 約38,000m2 " A/ G, o- ^/ x7 a! c. ~ k
總建築面積: 約187,000m2 : W0 ?8 Z1 w% {: Y8 g+ t1 a. s/ D
開工時間: 一期:2010年7月
3 l; t& B" ]5 y/ [: f3 ]二期:2013年8月 # y2 m$ y& r* R' ~& `6 | W! w
完工時間: 一期:2011年5月
5 z) ^$ s5 |8 b二期:2014年夏(目標)
1 R1 o! y5 N- W! i: R投產時間: 一期:2011年7月 9 [2 s4 M5 ]9 L0 B% s
二期:將於稍晚確定;主要計畫用於對現有晶圓容量進行技術轉型" ?8 p; Y* M6 R7 P0 f p
% i- P" D* D1 E& \: s, a四日市業務部概況
3 C9 w: R2 J9 x/ \: b0 E位置: 800, Yamanoisshiki-cho, Yokkaichi, Mie Prefecture ' P& S7 F, g/ u3 x/ V" W/ t
成立時間: 1992年1月 # e; b5 S. R/ F! s
總經理: Tomoharu Watanabe
O$ n( T* M- c' p員工數量: 約5,200名
- A9 q' Q9 g; Q* e: P+ |(截至2013年3月底,東芝的正式員工數量)
6 X- X5 G2 f8 F1 r4 h, l場地面積: 約436,800 m2 (包括Fab 5) 2 Q. z4 @+ S7 z0 V( V- [: g5 v; t
總建築面積: 約647,000m2 (包括Fab 5) |
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