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[問題求助] 製成變換跟mos 大size的關係

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1#
發表於 2007-10-8 17:46:05 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
有一組可以在tsmc.18製成下work的電路
! I1 N6 _  B% v3 t  m& z; P) |
1 `' L# E7 Q. S如果改用tsmc.35來設計時 mos大小可以照倍數調整嗎?!
; ^& G6 V# k; a& j) B/ C0 {  O( H/ e& l% U! ]9 s0 O
如果可以 倍率約是多少呢??
6 _! l- m1 R( j8 Z% d* G
  S% C. J! a' s' U0 f感情大家!!

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2#
發表於 2007-10-8 19:42:31 | 只看該作者
基本上應該不行直接換
) j0 A+ D+ O: Z. r# m' }: n* lSPICE Model不同
: c) ?1 ^4 O& z) e) F$ o參數也不同2 a6 r- Z: G9 |- ]0 D
應該無法直接比例放大
( r* k/ x, r+ x" b$ y+ y" s5 c
: f/ c6 T" w6 {1 B6 t5 x* G可是如果數位電路可能可以
: `. S0 d( l5 L9 m* j不過放大Rail Time and Fall Time可能會變差
3#
發表於 2007-10-18 09:35:51 | 只看該作者
其實這一部份!! 要看你的規格需求吧!!, I+ D8 b. Q/ P; q$ z/ Y
同樣的  0.18um 的製程!!  都不一定相同!!
3 z* Y' O4 z8 I8 j3 S* p& k1 E所以  最好依你自己的規格  重新設計會比較佳!!
4#
發表於 2007-11-29 17:48:56 | 只看該作者
還是重畫吧..雖然是同晶圓廠但製程是差了一萬八千里..看看Design Rule你就知道了..雖然之前聽說有一個可以改廠..改製程的軟體但聽說跑完之後還是有一堆Rule要改.......蠻費時的..要不然..你覺得Design  要 Layout 幹麻...  當然..萬一IC不會動..拿來推卸責任...是另一種功能....!!
5#
發表於 2007-11-29 17:58:43 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

早期LAYOUT 用參數制# }/ V  b% @9 t1 n
就是想這樣做4 ?1 @2 v2 o% d$ F% g
後來發現不行
! I$ l! l; B) M- _不是每ㄍ都按相同比例
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