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挹注資金將有助於Qcept持續滿足先進半導體生產應用中 非光學可視性缺陷(NVD)創新測試技術的成長需求! [% M+ `% W9 [, C
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【台灣,台北,2008年3月12日】半導體製造業新型晶圓檢測系統開發商Qcept(Qcept Technologies Inc.),日前宣布獲得西門子金融服務公司旗下西門子創投公司950萬美元增資。此外,Pittco資金管理公司與其他既有投資人,亦參與此次增資。 : `7 ~1 r7 H$ U
# Z# O. V5 \# I. x! v8 Y/ c此波增資將Qcept總資金提升至近2,500萬美元。Qcept將利用該資金擴大公司營運,解決非光學可視性缺陷(non-visual defects,NVDs)此項影響半導體產業良率的關鍵挑戰之一,以滿足市場上對晶圓檢測解決方案日益增加的需求。Qcept目前已於客戶的晶圓廠內,建置能夠進行製程開發、試產與量產應用的多重ChemetriQR平台系統。 * ^0 N; s& @2 V3 F9 R. `, n0 w& Z+ Y
% E1 T) o0 u6 z2 |6 r% A0 zQcept董事長David Lam博士表示:「新挹注的資金將使Qcept能夠加速推出ChemetriQ檢測解決方案,以協助客戶解決愈來愈多與NVD相關的良率問題。由於我們的技術與晶圓的光學檢測技術高度互補,晶片製造商將可同時運用兩種技術,找出更多影響良率的缺陷。」 3 S* X$ A" Y& D. y5 Y
1 {2 a7 ~' p8 H5 x西門子創投公司總經理暨執行長Ralf Schnell博士表示:「對於擁有數十億美元規模的晶圓檢測市場而言,Qcept的創新技術提供了一個理想的解決方案,為現今半導體製造業的領導廠商,解決越來越迫切的良率問題。隨著Qcept技術在半導體產業的氣勢愈來愈強,我們期待看到Qcept持續朝向成功之路邁進。」 ) M0 N+ |1 j$ X _2 y
* X- M6 t: C7 S( b5 MNVDs—日益影響良率損失的因素
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晶圓清洗與表面處理是半導體晶圓製程中最常被重覆的步驟,同時也是最常導致良率損失的原因。以導入新材料的方式改善元件效能,不但可能產生非光學可視性缺陷,而限縮了這些製程的極限,同時也造成了有機、無機、金屬污染、製程導致的電荷、水漬或其他的NVDs。由於NVDs並不會對光散射,因此無法以光學檢測系統探測。根據最新版的國際半導體技術準則(International Technology Roadmap for Semiconductor,ITRS)指出,越來越多的NVDs將成為日益趨重的挑戰,進而促使業界開發可負擔的檢測技術,不但超越以往的光學顯微檢測限制,更在不影響產出的前提下,提供更高的檢測效能。
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Qcept的ChemetriQ平台,透過一種創新且非破壞性的技術,檢測半導體晶圓表面功函數的變化量 (work function variation),以提供整片晶圓的快速線上NVDs偵測。這些變異因子顯示出NVDs的所在,可以內建於平台中的軟體轉換成影像檔。這套軟體能輕易地安裝至晶圓廠內既有的分析工具上,以進行更進一步的缺陷分類分析。ChemetriQ平台的敏銳度高達5E9 atoms/cm2 (每平方公分上5E9 atoms或二十萬個原子分之一),超越ITRS針對22奈米技術所規範的金屬感染物標準。
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5 p! z* ]; b3 V藉由ChemetriQ平台,半導體製造商便可以更佳的製程監控,降低良率損失,並透過加速製程最佳化的方式,更快提升產出良率。舉例而言,ChemetriQ平台透過非破壞性的方式,可在四分鐘內檢測出NVDs,而其他破壞性的分析方法最多要花上六小時的時間。相較之下,ChemetriQ平台更適合線上製程的監控。 ' c) d9 j) H2 S! u" A- N- e9 N2 w' T
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*國際半導體技術準則(ITRS),2005年版,良率的提升。
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關於 Qcept Technologies Inc. ; l+ ~& V2 h6 J! }, |, O
7 _7 R' _# O& {Qcept專為先進半導體製造提供非光學可視性缺陷(NVD)晶圓檢測解決方案,其ChemetriQR平台被廣泛應用於線上、非接觸性、全面晶圓檢測等關鍵製程上,例如次單層(sub-mono-layer)有機與金屬殘留物、製程導致的電荷,以及其他無法被傳統光學測試儀器探測出且不應有的表面不均勻等NVDs。如欲了解更多相關資訊,請瀏覽官方網站:www.qceptech.com。
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關於西門子創投公司
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- L5 k! n4 L0 b$ o& u0 W: q西門子創投公司(Siemens Venture Capital,SVC)為西門子集團旗下的企業投資組織。西門子集團是全球最大的電子工程公司之一,其2007年會計年度的全球營業額高達742億歐元。SVC的目標為找出並投資可增強西門子核心業務範疇的新興創新科技,其中特別關注具備長期成長空間的市場,例如能源與環保、自動化與控制、工業與公共基礎建設,以及醫療保健等。 " B0 i) f$ v, {) g
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截至目前為止,SVC已經投資一百家以上的新創公司及四十個創投基金,總資金超過7億歐元。創投活動已是西門子創新與成長策略中不可或缺的一環,並可支援西門子集團內的研發活動(在2007年的研發經費高達34億歐元,並僱用32,500名研發人員)。SVC分別設於德國慕尼黑、美國加州帕羅奧多與麻州波士頓、中國北京、印度孟買,並透過西門子設於以色列的據點在當地進行活動。如欲了解更多相關資訊,請瀏覽官方網站:www.siemensventurecapital.com。 |
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