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IBM公司在半導體技術發展與製造的經驗和成就,可以幫助這個團隊加速在28奈米以及更小世代製程的開發。IBM位於East Fishkill的半導體工廠和CNSE學院的Albany 奈米科技中心,將使用諾發系統的GxT R先進光阻去除平台研發新的精密光阻剝除去應用。諾發系統在GxT平台上表現出領先業界的卓越清洗效果,藉由導入特有的無氧化化學去除技術,成功實現了矽和氧化物損失小於 0.1奈米的成果。CNSE學院則可在世界最先進的學術園地Albany奈米科技中心,提供第一流水準的技術人才與無與倫比的科技設施。
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IBM製程開發副總裁 Paul Farrar 表示:「本公司將持續投入與諾發系統和CNSE在這個新技術上的合作,我們會先著重在優化目前領先業界的高介電金屬閘極晶體結構中的光阻剝除技術。再透過與設備供應商及世界級公司合資的CNSE Albany 奈米科技中心的密切合作,我們將可以快速地將這關鍵的前瞻技術推廣到IBM及其聯盟合作夥伴的產品上」。
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1 R/ P& ? @7 r% s) F" k- u諾發公司執行副總裁兼全球銷售、市場營銷暨客戶滿意度主管 Tim Archer 認為:「IBM公司在半導體製造工藝上深具響譽,諾發公司很高興能夠與 IBM和CNSE共組聯盟,並致力於先進的光阻剝除和清潔科學之技術發展」。8 c" i8 T+ V5 O Y! M
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另一方面,UAlbany NanoCollege策略聯盟副總裁 Richard Brilla也表示:「我們非常期待與業界領導公司諾發系統以及 IBM 公司合作,共同致力於加速開發和部署創新技術,這技術將提升奈米電子製造的能力。同時,這層合作關係也將整合先進的工藝和設備技術,以幫助解決目前工業界迫切的需求,並提供IBM及其聯盟合作夥伴更先進的製程技術」。 |
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