MKS萬機科技推出新一代壓力檢測、氣體及製程控制解決方案

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協助晶圓製造商有效降低成本 提高產量與製程品質
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) l/ g2 |" R' E+ W5 Q3 R0 O; F- U全球半導體和相關製造產業製程控制技術領導廠商—萬機科技 (MKS Instruments,Inc., 美國那斯達克上市代號：MKSI) 今日首度在台灣舉辦科技研討會，針對半導體業者提出新一代壓力控制、遠端電漿系統、氣體分析及臭氧產生器等最新製程控制解決方案，以協助國內半導體業者持續提高製程品質與產量。
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6 n( F+ Z( z& N" x) r2 m+ S- f$ y在全球經濟成長趨緩與高油價的衝擊下，市調機構預估今年半導體市場僅有6-10%的成長空間。對此，許多業界代表在上週於美國舉行的半導體產業策略論壇(ISS,Industry Strategy Symposium)中，普遍認為應著眼於有效整合來提整體高獲利能力。有鑑於此，MKS萬機科技今日推出新一代的製程控制解決方案，包括壓力控制和流量控制、遠端電漿系統、製程氣體分析，以及有助於提升半導體製造過程中環境安全的臭氧產生器等，希望在成本控制的壓力下協助客戶輕鬆升級現有的製程控制設備，同時有效提高製程良率和生產力。
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MKS萬機科技台灣區總經理簡育民表示：「在整體經濟因素和全球競爭的影響下，半導體廠商一方面縮減資本支出，另一方面又要維持競爭優勢。因此，MKS精心挑選我們在業界最受肯定的製程控制系統，推出新一代產品，希望幫助我們的客戶輕鬆升級現有設備，用更經濟的方式持續提升製程品質、產量和機器使用率。」
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; T( R& T* o  h- w+ U& M隨著環境安全意識抬頭，降低因製程產生的化學污染相對重要。由於臭氧容易還原，且在採購、運送和儲存上的成本相對低廉，目前已經應用到許多半導體製程中，取代某些化學材料。MKS萬機科技提供全系列臭氧產生器相關產品，包括超濾淨、高可靠性和集中性的臭氧產生器、closed-loop臭氧控制輸送系統、臭氧水運送次系統和相關零件等，可應用於化學相沉積及濕式蝕刻製程，也可用於原子層沉積製程等技術上，幫助晶圓製造廠有效降低成本。

此外，MKS萬機科技的遠端電漿系統(Remote Plasma System)市場佔有率高達90%，其專利產品ASTRON可以達到更高效率的製程腔體清潔效果，透過模組化的設計，讓使用者更容易管理與控制，提升製程管理效率並降低維護成本。
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/ I  W3 i3 u- M7 A# kMKS萬機科技自1999年在台灣成立分公司以來，不斷因應客戶製程技術的演進和衍伸的相關需求，引進壓力量測與控制、氣體成分分析、流量測量與控制系統、電漿電源及製程氣體產生器，以及真空儀器等各種能協助半導體產業提高良率和產量的解決方案。MKS萬機科技亞太區副總裁Mr. Michael Weiss指出：「MKS相當重視客戶服務品質，投入許多資源進行教育訓練，堅持雇用業界最頂尖的人才。台灣地區有近70%的人力投入客戶服務，並在台南有客戶支援中心。爲就近服務亞太地區客戶，MKS在台灣、日本、中國、新加坡等7個國家設有客戶支援中心，並在天津設有研發中心。」

+ R2 b. i4 E0 O- G+ Y7 o! QMKS萬機科技在半導體製程控制中的氣體和真空儀器等應用方面居於全球技術領先地位，目前，MKS萬機科技的臭氧產生器相關產品在薄膜的原子層沉積製程市場佔有率高達60%，而其半導體製程控制相關解決方案已獲得台積電、聯電、華亞、南亞、茂德、華邦等台灣前20大晶圓代工廠採用，並持續增加中。在平面顯示器部分的客戶包括友達、奇美等主要製造商，及太陽光電產業的客戶等。

, X# o$ G* e. p2 a, w: d9 ]關於MKS Instruments (萬機科技)
( d+ V! m7 r& x1 K0 J/ \2 d
; t. b2 `% v, n. O7 `$ hMKS萬機科技是全球量測、次系統和製程控制解決方案的領導供應商，協助製造業者測量、控制、監控和分析先進製程中重要的參數，以提升製程效能和產量。該公司的核心產品為壓力量測和控制相關技術，並衍伸到材料遞送、氣體成分分析、靜電荷控制、製程數據及資訊整合技術、電漿電源與反應氣體產生器，以及真空技術等。主要市場為半導體設備製造商，以及應用在平面顯示器、太陽能電池、資料儲存媒體方面的先進薄膜鍍膜技術。除此之外，MKS萬機科技的技術也廣泛應用在醫學電子系統、生化醫藥製造和能源產生及環境監控等部份。