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標題: 3/8~[日本專家]Micro LED Display製程趨勢與光學檢測技術 [打印本頁]

作者: SophieWeng@G    時間: 2019-2-14 04:58 PM
標題: 3/8~[日本專家]Micro LED Display製程趨勢與光學檢測技術
Micro LED對於微米級缺陷的承受能力相當低,因為轉移和修復技術非常昂貴。為了減輕對成本和工廠產量的不利影響,Micro LED檢測要求要高得多。可能需要亞微米級別的靈敏度,以確保沒有缺陷漏網。與mini LED相比,檢測步驟也可能更多,以確保所有系統缺陷都被識別並根除。因此,晶圓經過其他技術步驟,例如光刻、蝕刻和清潔,這可能增加系統和隨機缺陷。諸如形成不良的發射區域、表面顆粒等缺陷對於LED效率都有直接影響,導致暗淡或失效畫素。需要捕獲這些缺陷並對其進行分類,以便通過相關性統計和缺陷源分析來確定它們與良率之間的相關性,並且降低它們的密度。

[議程安排]
時間內容主講人
09:40~10:00報到
10:00~11:00一、Micro LED顯示器產業現況與應用潛力
1.Micro LED市場趨勢與量產技術現況
2.未來Micro LED應用潛力與產業機會
晶元光電
鄧 處長
11:10~12:10二、面對Micro LED製程所需的轉移與良率檢測技術分析
1.Micro LED轉移技術與定位技術現況
2.高良率化課題與檢技術分析
台北科技大學
光電工程系
陳 教授12
12:10~13:10午餐
13:10~14:40三、針對Micro LED色度、均一性檢測的技術現況與動向
1.Micro LED的色域、色度可再現性範圍分析
2.針對Micro LED色度、均一度檢測的技術課題
TOPCON Technohouse光計測部
營業事業群經理
西川先生
*日語演說中文口譯*
14:40~15:00休息時間
15:00~16:303. 針對Micro LED的最新光學檢測方法
4.Micro LED的未來展望
TOPCON Technohouse光計測部
營業事業群經理
西川先生
*日語演說中文口譯*

[報名資訊]





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