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標題: 2020/7/16 快速上手Backend混合信號IC Layout與Calibre物理驗證研... [打印本頁]

作者: SophieWeng@G 時間: 2020-7-2 10:14 AM
標題: 2020/7/16 快速上手Backend混合信號IC Layout與Calibre物理驗證研...
▲ 時間：2020年7月16日 (星期四) 13：00 - 16：30
▲ 地點：台北市南港區園區街3-2號9樓H棟902會議室( IoT LAB )
▲ 報名：https://reurl.cc/kdjl9d

▲ 主辦單位：南港IC設計育成中心

▲ 協辦單位：恩萊特科技股份有限公司 Enlight Technology Co.,Ltd.｜Mentor, A Siemens Business

課程大綱

Introduction to TannerL-Edit
Creating New Designs and design management
Layout Design – Drawing &Editing
Derived Layer
Verification and StreamingIn/Out
Hands-on with L-Edit
Q&A

研習會特色

學員可自行攜帶電腦，當天提供正版授權軟體，實際上機操作
本課程提供預先準備好的 test case，透過實際的案例應用，快速上手
深入淺出的講解，快速了解目前就好上手的 physical layout 與 DRC/LVS 驗證流程
講師現場互動，討論實際案例，如何利用工具解決問題，讓您確實掌握軟體要領

Tanner 平台介紹

適合中小型 Analog/Power 為主的 IC 設計公司
目前市場上最易入手的完整 IC design flow
完整的 Hierarchical physical layout and verification
支援全球超過 23 個晶圓廠，150 個 FOUNDRY PDK
TSMC 認證的 Analog flow
支援完整的 OpenAccess & iPDK
內建完整的 Calibre DRC/LVS/xRC/RVE Engine

L-Edit Layout 工具特色介紹

先進的 3D 分析工具
複雜幾何形狀繪製、布林運算
先進的光罩繪製(layout)與檢查(verification)功能
可直接匯入其他 layout 工具 technology and display file
DRC 即時檢查功能及整合foundry Calibre DRC/Layout sign off
Windows /Linux 雙平台支援

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