歐洲業者合作開發奈米壓印微影技術蝕刻製程

小朱仔

奈米壓印(nanoimprint)微影技術壓印機(stamp)供應商NIL Technology，與Oxford Instruments合作開發針對奈米壓印微影的蝕刻製程，並已完成了三個必要步驟的開發；其一是用於矽和熔融二氧化矽(fused silica)的NIL壓印機蝕刻；其二是在壓印之後清除殘留層的的製程；其三是將圖案轉至(矽或熔融二氧化矽)基板的技術。

奈米壓印微影技術是一種通用的、具成本效益的高生產力方法，適用於10nm以下結構的生產，目標應用廣泛，包括資料儲存元件、光學元件和生物感測器。這次合作結合Oxford Instruments在電漿蝕刻方面的專利技術，以及NIL Technology在開發模板、壓印機和製程方面的經驗。

而NIL與Oxford Instruments這兩家分別來自丹麥與英國的公司，已經合作開發了用於熔融二氧化矽奈米壓印機的蝕刻技術，可去除壓印留下的聚合物、並且臨界尺寸損失小的技術，以及最終結構的蝕刻製程。