|
double via, metal /od/poly fill 算是基本的DFM....
* i o! ?4 _+ }8 @9 d, {LPC, VCMP.....可能從65nm開始..
1 l+ l- k2 H% b/ Y0 N# G1 VBlaze DFM這個厲害 for low power, leakage issue, idea是蠻不錯的,只是實際應用上有無宣稱的那麼厲害?
* r+ T6 C' @& j h/ o$ |一般的design應該會用mult Vt...之後的空間有多大,depend on design
+ _$ v @7 f) ~$ f* V
* {& i& G. M+ H& G* wCadence 是merge了clear shape..
9 c* Y, }! |0 o" GMagma LPC(Lithography Process Checking)/LHC(Lithography Hotspot Checking)強調的是可以整合在APR的tool上2 C# x- z3 D# v/ z. R' E
LPC 以一般來說65nm, 45nm的比較需要, 90nm還不是很需要 |
|