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發表於 2008-12-22 15:15:31
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Soitec採用Qcept Techonologies 非光學可視性缺陷解決方案作為絕緣層上覆矽晶圓製造應用
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【台灣,台北,2008年12月22日】在經過數月的合作努力後,半導體製造業新型晶圓檢測系統開發商Qcept(Qcept Technologies Inc.)宣布絕緣層上覆矽(SOI)與其他工程基板的領導供應商Soitec公司,將採用其ChemetriQ® 3000非光學可視性缺陷(NVD)檢測系統。ChemetriQ系統安裝於Soitec的Bernin II 12吋SOI製程晶圓廠中,目前應用於裸晶圓(bare silicon wafer)的進料品管,與SOI晶圓的製程監視。! d7 C/ [* k# Z2 ]( }
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為爭取Soitec的採用,Qcept ChemetriQ解決方案必須符合Soitec嚴格的投資報酬率(ROI)與製造可靠度標準。在成功完成工具評估與後續訂單後,雙方亦同意參與SOI應用開發的持續努力,專注於擴展Qcept技術在各種現有的檢測應用,並開發新的應用,藉以改善Soitec SOI晶圓的製程控制、品質與最終良率。. U" \0 x4 Z0 o8 U6 D" B8 Q
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Soitec SOI產品平台部門副總裁Christophe Maleville表示:「Soitec致力提供最高品質的工程基板,滿足半導體產業的需求,創造出各種行動、高效能,與先進的微電子應用。Qcept ChemetriQ檢測技術提供獨特的功能,可深入分析裸晶圓的狀態,並監控我們本身的製程,讓我們發現原本無法偵測到的潛在良率問題。該款解決方案為我們的最終產品提供更高品質的保障。」 $ C1 y w" I9 T8 W0 W* r
' ]: S& T% `" k, [/ T9 |) rQcept總裁Erik Smith表示:「隨著更嚴苛的製程容許度要求與新材料問世,無論是對於晶圓或IC製造商而言,NVD都逐漸成為良率必須考慮的問題。我們十分高興全球首屈一指的SOI晶圓供應商Soitec,選擇使用我們的ChemetriQ系統來監測其先進製程。此項合作結果以及我們爭取到的其他主要IC製造商客戶,足以證明業界逐漸體認NVD的檢測方案,為晶圓與IC製造的整體良率管理策略重要環結之一。」
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Qcept的ChemetriQ平台提供快速、全晶片、線上的非光學可視性缺陷檢測,包括有機與無機的殘餘物、金屬污染物、製程導致的電荷、水痕,以及其他光學檢測系統無法偵測到的非可視性殘餘物缺陷。為了達成上述功能,ChemetriQ運用一項創新的非破壞技術,能偵測半導體晶圓表面的功函數變化量(work function variations)。ChemetriQ平台的靈敏度達到5E9 atoms/cm2(等同於在20萬平方公分的範圍內的1個原子),這超越國際半導體技術藍圖(ITRS)對於22奈米節點所規範的金屬污染物偵測要求。# H+ V* c g8 S+ ^0 ?* I5 P6 ^
0 E5 E" t3 k$ N' r, I; _8 P關於Soitec Group) x( _ O, }' I n& w1 V
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Soitec Group為全球首屈一指的工程基板解決方案研發商與供應商,為現今最先進微電子產品的基礎。該公司運用其專利的Smart Cut™技術設計新型基板解決方案,像是絕緣層上覆矽(SOI)晶圓,就成為該公司專利技術的第一個高量產應用。自此之後,SOI逐漸發展為未來的材料平台,讓業者生產效能更高、速度更快、功耗更低的晶片。0 P) {) A8 F& E2 S2 \# h
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現今,Soitec生產超過全球80%的SOI晶圓。Soitec總部位於法國的Bernin,在當地擁有兩座高產量晶圓廠,Soitec在美國、日本,及臺灣設有辦公室,在新加坡的新生產據點正由顧客進行審核驗證。 " Y, g* w' r4 s3 h$ ^. V
6 C; `3 B6 N, [包含Picogiga International(Les Ulis)及Tracit Technologies(Bernin)的另外兩個事業群,組成了Soitec Group。Picogiga致力供應各種先進基板解決方案,包括III-V族磊晶圓(epiwafer)與氮化鎵晶圓(GaN-based Wafer),為高頻電子與其他光電元件製造商提供複合材料。Tracit則致力發展薄膜層轉移技術,為電源IC與微型系統製造先進基板,並開發通用電路轉移技術,支援包括影像感測器與3D整合等應用。Soitec Group的股票在巴黎證券交易所掛牌交易。 |
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