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工研院_太陽光電技術應用與未來發展探討

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1#
發表於 2008-8-17 13:41:19 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
工研院_太陽光電技術應用與未來發展探討∼
請大家參考一下∼
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2#
發表於 2008-8-18 09:24:38 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

沒有連結,也沒有附加檔案,這叫我們怎麼參考啊?

brian大大要不要用回覆修改一下內容?
3#
發表於 2008-9-10 15:25:04 | 只看該作者
大大  可以將連結修復嗎??
要不然沒辦法,作參考啦!
4#
發表於 2008-9-25 07:07:54 | 只看該作者

械所25日在高雄 研討「薄膜太陽能光電技術」

【新竹訊】經濟部技術處與能源局主辦、工研院機械所執行的「2008國際薄膜太陽能光電技術與設備發展研討會」, 25 日在高雄舉辦;促進太陽光電設備產業技術發展,建立國際合作管道,促成產業相互交流。

機械所表示,近五年來,太陽光電製程與設備產業技術快速的發展中,全球太陽電池產量年成長率均超過50%,顯示其不可限量的發展潛力。為促進台灣太陽能光電設備產業的先進技術發展與交流,推動設備、零組件國產化,特別規劃舉辦「2008國際薄膜太陽能光電技術與設備發展研討會」。

論壇中邀請多位國際產業界專家及學者,介紹國際間太陽能光電設備產業發展現況、趨勢及最新先進技術應用,其中包含國際知名的原子層氣相沉積(ALD)與大氣表面奈米鍍膜技術大廠Beneq Oy(Finland)公司、專業PECVD電漿鍍膜技術廠德國CCR Technology GmbH(Germany)公司,及國內學者專家進行薄膜太陽光電先進製程技術研討。

其中,中興大學電機工程學系教授江雨龍介紹「矽薄膜太陽能電池製程技術」、東華大學電機工程學系教授黃家華介紹「CIGS薄膜太陽能電池製程技術」、Manfred Weiler博士介紹「電感耦合式(ICP)電漿技術於微晶矽薄膜太陽能電池製程的應用」、Jarmo Skarp博士介紹「原子層氣相沉積( Atomic Layer Deposition)技術於薄膜太陽能電池製程之應用」,同時討論「ALD於大面積鍍膜時可能遇到的問題」、Tommi Vainio博士介紹「常壓式表面噴塗奈米鍍膜技術與設備於太陽光電玻璃製程相關TCO、Low-e及TiO2鍍膜技術之應用」。

工研院機械所電話(03)591-6470號黃美琴小姐或(03)591-6489董福慶工程師。
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