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[問題求助] 製成變換跟mos 大size的關係

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1#
發表於 2007-10-8 17:46:05 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
有一組可以在tsmc.18製成下work的電路
! l! ]& U1 O. x, i- a' e, p- [2 a- p  d2 V* }9 z4 H9 d- o
如果改用tsmc.35來設計時 mos大小可以照倍數調整嗎?!
+ ?( B( d% c% s/ ?# Q/ l6 P" m. ?
4 ]& y8 ^% p1 j: w3 n如果可以 倍率約是多少呢??( \: m( Y6 |& i5 k* k

) |- D  d8 N" e" Z* f; h+ x: X感情大家!!

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2#
發表於 2007-10-8 19:42:31 | 只看該作者
基本上應該不行直接換3 m% R; r7 z4 e" v% r% t2 v
SPICE Model不同
& [- T' ]; ?; M/ y. d參數也不同
, {+ L# b: y) V) x4 N應該無法直接比例放大  x8 m1 Q* P0 q- H( d5 s7 V! @: a
, g8 N) N# J) G
可是如果數位電路可能可以
+ ]& G, v' s7 P1 x2 @$ c不過放大Rail Time and Fall Time可能會變差
3#
發表於 2007-10-18 09:35:51 | 只看該作者
其實這一部份!! 要看你的規格需求吧!!
& E, t9 M0 N7 M( u同樣的  0.18um 的製程!!  都不一定相同!!) X2 U1 l* D3 c; I& N- z
所以  最好依你自己的規格  重新設計會比較佳!!
4#
發表於 2007-11-29 17:48:56 | 只看該作者
還是重畫吧..雖然是同晶圓廠但製程是差了一萬八千里..看看Design Rule你就知道了..雖然之前聽說有一個可以改廠..改製程的軟體但聽說跑完之後還是有一堆Rule要改.......蠻費時的..要不然..你覺得Design  要 Layout 幹麻...  當然..萬一IC不會動..拿來推卸責任...是另一種功能....!!
5#
發表於 2007-11-29 17:58:43 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

早期LAYOUT 用參數制5 p- U# m* Y2 C% O' ^5 q1 ^3 x6 a  E
就是想這樣做
* k: \6 R$ t  T" @後來發現不行
+ [5 \" D! p$ m+ u不是每ㄍ都按相同比例
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