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(台北訊)半導體前段製程中,微影製程可說是最關鍵的一步驟。尤其以目前半導體製程不斷快速演進的狀況下,微影技術已成為現今影響晶圓製程技術精進的重要關鍵。如何在微影製程的曝光、顯影和蝕刻後,能夠完全的去除洗淨光阻劑,以確保後續製程的潔淨度,光阻去除的技術也攸關整體製程的品質與良率。1 k4 I+ m9 h+ L4 l, Z
6 O, o% |7 |# @2 D. n$ U; D台灣艾萬拓股份有限公司(Avantor™ Performance Materials)為全球濕蝕刻技術的領導廠商,提供領先的化學材料與半導體製程化學物質,也是英特爾的主要供應商。0 u0 t4 h$ x3 A3 M7 _1 g0 y
- j7 f4 {$ b) `2 I! D$ j5 L) s' h8 b為更加貼近台灣半導體產業,台灣艾萬拓特別於新竹縣竹北市設立分公司與實驗室,未來更可能選擇台灣為主要的技術研發生產中心。為了讓市場能更精確掌握半導體製程技術與發展趨勢,台灣艾萬拓即將於2011年9月20日假新竹國賓大飯店舉行「開幕酒會暨半導體產業趨勢論壇」。期望邀請各位業界先進與媒體朋友蒞臨參與。3 {, _! ?2 j8 ?! F8 k w
5 I4 ~9 e8 G! r+ _& T: S, M: b時 間:2011年9月20日(星期二) 11:00-15:00 . T% ^6 y& v( c' q
地 點:新竹國賓大飯店10樓 Ballroom B (新竹市中華路二段188號) # @9 c6 {0 P9 w# C
洽詢專線:+886-2-8712-8866 分機320 鄭小姐
" G* e$ K% M {0 A" W q* V$ P活動網頁:http://www.digitimes.com.tw/seminar/Avantor_20110920.htm |
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