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[問題求助] 製成變換跟mos 大size的關係

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1#
發表於 2007-10-8 17:46:05 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
有一組可以在tsmc.18製成下work的電路7 o: ~3 [6 P% z5 D  g: G( b

6 S8 \0 |& Q: K4 P6 N如果改用tsmc.35來設計時 mos大小可以照倍數調整嗎?!6 w% G" E5 }; N1 w- T9 S
# H' d4 t! K$ ~! ]" P
如果可以 倍率約是多少呢??* n0 ]1 o, i6 ]- }% v* v+ q
1 q2 t5 X, X2 r$ C3 z
感情大家!!

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jianping + 5 + 5 Good answer!

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2#
發表於 2007-10-8 19:42:31 | 只看該作者
基本上應該不行直接換& C" Y& ^+ l4 R+ o
SPICE Model不同4 {) r* B5 ?3 U5 I8 V" J  D
參數也不同
; g) i" W/ R2 x. U1 l! d應該無法直接比例放大2 @2 O. y! }* L, l8 s* \6 s( p; J8 r
$ ^  R) t2 R" {+ }  R
可是如果數位電路可能可以* n: K/ k, j9 T; u5 A
不過放大Rail Time and Fall Time可能會變差
3#
發表於 2007-10-18 09:35:51 | 只看該作者
其實這一部份!! 要看你的規格需求吧!!
% [/ H9 f0 i3 s9 I9 k# r& `同樣的  0.18um 的製程!!  都不一定相同!!
! M, B9 @  S0 J. g所以  最好依你自己的規格  重新設計會比較佳!!
4#
發表於 2007-11-29 17:48:56 | 只看該作者
還是重畫吧..雖然是同晶圓廠但製程是差了一萬八千里..看看Design Rule你就知道了..雖然之前聽說有一個可以改廠..改製程的軟體但聽說跑完之後還是有一堆Rule要改.......蠻費時的..要不然..你覺得Design  要 Layout 幹麻...  當然..萬一IC不會動..拿來推卸責任...是另一種功能....!!
5#
發表於 2007-11-29 17:58:43 | 只看該作者

回復 1# 的帖子

早期LAYOUT 用參數制6 m* \6 F' w9 d3 h
就是想這樣做
  x! L& p& _3 o7 \後來發現不行# ?7 f# c* w, ?* D# u2 `+ p! p
不是每ㄍ都按相同比例
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