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[問題求助] 现代的高压ESD

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1#
發表於 2007-5-30 22:24:52 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
最近要用到现代的高压ESD,有谁可以提供一些参考吗?. e8 T+ s) b) n4 _8 ?7 v
因为现代那边没有提供高压的ESD rule,自己画的时候不太敢随便画,,
# o* C9 ?. j6 u希望有经验的前辈能给点建议,大致的rule可以建议一下吗?
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2#
發表於 2007-5-31 08:22:21 | 只看該作者
可以請問一下你所指的高壓ESD 是幾KV阿% U4 p. n2 ^9 }7 R( R
可以盡量寫清楚嗎...感謝
3#
 樓主| 發表於 2007-5-31 14:14:43 | 只看該作者

.........

我想先問一下阿,平常的工作電壓是20v,那對於ESD的畫法應該也會有差吧?4 l0 t& \6 z: p0 u% L  \# a/ J7 {5 f# B
我的高壓是指芯片平時工作時的電壓是20v,而ESD的承載電壓,
! [3 ^" g' g7 Q' B! s( K9 c5 b是HBM2KV,MM200v,
, |+ ^9 i+ p1 H. g, i如果能給我一個答復,我感激涕零,
% P/ U( r/ M7 `1 i- p* `# |- i但是不好意思,沒有米米的回報,因爲我的已經是負的了

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sjhor + 2 沒關西!!歡迎發問!!

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4#
發表於 2007-6-1 08:56:07 | 只看該作者
其實用普通的 CMOS ESD protection 就可以唷!!, r6 n1 z6 k6 |$ [' @* q7 s
PMOS/NMOS 的 diode 就可以了! 10V/per 1um width 應該就可以約列算出你所需要的 size!!5 N2 f* e4 F2 j% h# u
再加上 VDD/GND 的 ESD Clamp circuit 應該就可以了!!
) H0 K$ ]7 z* r0 S; Y3 T不過  大部分的人 PMOS/NMOS 的 size >=300Um,  以3KV來設計比較好唷!!
5#
 樓主| 發表於 2007-6-1 13:57:40 | 只看該作者

感謝

呵呵,謝謝版主同志,
+ a- X) q5 L# c) b- s不過不同的工藝,我是怕ESD的rule待會不滿足,5 ]. V1 k* V  Y* _% u1 @
比如説D端contact到gate poly的距離大致怎麽來決定,' z; U- E& ^) f% o  k4 {9 n
D端或者S端到guard ring 的距離我又大致可以設為多少呢?
3 ]" v. w% t* F+ D雙層guard ring之間的pitch又是多少,然後guard ring的diff的寬度要多少呢?
5 W# T5 M- o( |- F' e版主同志,麻煩你再告訴我一下哦
6#
發表於 2007-6-7 18:29:08 | 只看該作者

回復 #5 amanda_2008 的帖子

請您先告知大家,您要下的fab是哪家,什麼製程(process),這樣才好回答您。" g1 v; L$ T; G  Q& w3 f) _
每家的參數數值都不太一樣。0 i/ v1 J/ G* L* C' K+ k
; K( g! c" T9 _5 F& c4 {, U
如果您手邊有該家fab的design rule manual, 裡頭應該會有ESD design rule。
7#
發表於 2007-8-1 21:18:44 | 只看該作者
一般代工廠都有ESD rules,只要照話就好了,或是請帶工廠提供也可以。
2 x1 x6 @; l9 c& t! X2 H
  l! K) N9 _# M+ {1 p( N5 o* hsource contact 照rules話就可以了,drain contact 一般約為source contact 3-5倍不等。7 r* W8 N6 `9 p" c: W. {" Q# s

% u2 {  t7 G' _4 I! G/ Ipick up 與guard ring之diffusion約為4um,pitch 一般10-20 um 不等,以上為一般之經驗,詳細需參考foundary之 design
5 [& ?3 \( h- [guide。
8#
 樓主| 發表於 2007-8-22 21:52:22 | 只看該作者

谢谢

谢谢大家的热心答复7 J2 A: c' _* k" \7 h7 N+ D9 l" X
嗬嗬,我在题目里有标说是现代的哦,
1 a# O0 Z% Z1 b* Y) P其实有时候代工厂可能没有你现在要用工艺的esd rule,
5 b. T" K% o7 G, q6 |- y% s' K% h所以这个时候就只能凭经验来画了
9#
發表於 2007-12-11 19:54:31 | 只看該作者
多謝!- a! z1 j* _0 Y: @/ C& y* F+ c
謝謝版主了,又了解了新知識了呢!
- S& h* T3 u- J9 h+ v: z" j扫扫盲,呵呵。
10#
發表於 2008-10-23 09:35:29 | 只看該作者
原帖由 sjhor 於 2007-6-1 08:56 AM 發表
& y# u/ g3 R; I& ~其實用普通的 CMOS ESD protection 就可以唷!!- r" e# m+ i% E3 @4 C
PMOS/NMOS 的 diode 就可以了! 10V/per 1um width 應該就可以約列算出你所需要的 size!!
& j+ p. P) j6 _- y再加上 VDD/GND 的 ESD Clamp circuit 應該就可以了!!( x0 s6 j3 [2 x! G( k. r& C: M/ z
不過  大部分的人 PM ...
. K, z8 `/ r) n7 k& v4 T
3 {& I3 G  S/ k% X/ |
"10V/per 1um width "有疑义,因为比如W=300um,L=0.5um与L=0.35um应该有很大差别吧!
11#
發表於 2008-10-23 12:23:46 | 只看該作者
如果是高壓的FDMOS,難度更高!因為這種device天生不利ESD.
12#
發表於 2009-8-5 19:50:29 | 只看該作者
原帖由 sjhor 於 2007-6-1 08:56 AM 發表
6 p- W8 D+ y$ S7 P' X10V/per 1um width
1 w8 x7 q9 h4 q: o. K/ K; P

9 t8 F$ W- Q* ^, O' a这个值是怎么来的呢?
13#
發表於 2011-7-19 12:30:31 | 只看該作者
L為最小的通道長度,一般而言,通道長度愈小,靜電放電防護電晶體的耐受度愈小。增大通道長度可使靜電放電耐受度提高。但是必須同時增大防護電晶體的寬度。如此一來便會使佈局面積增大而使成本增加。
14#
發表於 2012-7-12 12:16:35 | 只看該作者
学习学习!!!!!!!
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