時間 | 主題 | 主講人 | 08:30-09:00 | 報到 | 09:00-09:40 | Keynote | Alex Shubat , _( ^! |0 }* M* G; B& ]
Virage Logic總裁兼總行長 | 09:40-10:20 | Keynote | 莊少特 $ q/ j+ v: T4 j# F7 }' I
台積電資深處長 | 10:20-10:40 | Tea/Break | 10:40-11:20 | Keynote | 徐清祥 9 Z, F7 M3 ^ T6 f- d- K1 m; ?
力旺電子董事長 | 11:20-12:00 | Keynote | Robin Saxby- a# \4 Y. K9 i2 u" g* Q
ARM創辦CEO與前董事長(已退休) | 12:00-12:15 | 半導體產業先鋒獎頒獎儀式 (Semiconductor Industry Pioneer Award Ceremony) | 12:15-14:00 | Lunch time & booth demo | 14:00-17:00 | Tracks - 下午3場技術論壇 | Track 1 (永康殿)
" |/ F1 v. M, o$ l3 ^! K5 I多功能智慧型產品 | Track 2 (永福殿): m$ c1 a z& M4 ?: a4 j$ V7 _
高速介面IP解決方案 | Track 3 ( 永和殿)( Q t4 }. A1 t: D0 }) D
達到28奈米的成功境界 | - 手機產品的HD影像與音效設計
- 手機產品的感應架構
- 手機產品的MEMS感應設備
- 針對多媒體與無線通訊產品所需的下世代混訊IC
| - 高速介面IP解決方案如MIPI與DDR
- 消費性多媒體應用所需的多核心平台
- 網路單晶片(Network on Chip; NOC)到SoC多核心多媒體處理架構
- 下世代4G行動產品SoCs所需的高速IP解決方案
| - 如何讓SoCs達到28奈米一次成功的境界
- 如何在28奈米時代設計類比與混訊IC
- 28奈米時代的氮氧化矽(SiON-gate)與高介電層/金屬閘(High-K/metal-gate)技術比較
- 為28奈米製程設計所需的設計規則檢查(DRC)與可製造性設計(DFM)佈局
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| 17:00-18:00 | 攤位展示 / 現場交流 |
備註:主辦單位保留變更議程順序、內容及相關事項之權利,議程變化恕不另行通知。 |