本帖最後由 tk02561 於 2014-4-9 12:22 PM 編輯 # X8 @$ ^* j* r7 u5 |2 l
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表一、 全球前十大半導體製造設備廠營收排名初步統計結果(單位:百萬美元)5 f9 k/ O# V% [6 L. S
2013排名( N( @* l5 y$ {* H3 m
| 2012: {' f* _. k" c( @
排名, y6 [# E0 `4 Y; h
| 廠商 | 2013年 營收 | 2013年 市占率(%) | 2012年 營收 | 2012-2013 年成長率(%) | 1* K7 U% o2 J% L1 n! ]5 I- @
| 1
; l1 }4 c& R" L: K. b$ _) }- h/ |% B | 應用材料公司 | 5,460.1 | 16.2 | 5,513.4 | -1.0 | 2- H1 e$ C; o @6 g9 ?
| 2! Q0 f. D$ e! k7 s2 h) V
| 艾司摩爾ASML | 5,302.8 | 15.7 | 4,887.5 | 8.5 | 3' N8 O0 P2 {: g4 l! z! {- ?# A9 @
| 4
9 D1 P: N, l; C3 I, g- l. ~ | 科林研發 Lam Research | 3,163.4 | 9.4 | 2,805.7 | 12.7 | 4$ V/ U3 \, Z5 p$ i
| 38 f4 B0 V6 o I9 l6 n+ \. j$ s
| 東京威力科創 | 3,057.1 | 9.1 | 4,219.0 | -27.5 | 51 I0 z: q* N! q4 Y0 _! U9 Y5 f
| 5
! N0 S5 g0 g9 _# N8 y | 科磊KLA-Tencor | 2,163.4 | 6.4 | 2,463.5 | -12.2 | 65 I# F3 p* o6 Z* s% j- ]& j; _, f
| 6
$ [# J8 ^8 l" X8 C, r8 h | Dainippon Screen | 1,222.7 | 3.6 | 1,483.6 | -17.6 | 7, F6 @) b5 h6 Q" U, d
| 8+ ]8 h( h! ^4 F! b$ M
| 日立先端科技 | 862.0 | 2.6 | 1,137.7 | -24.2 | 83 }6 u6 m) ?2 l* V6 p& c. E& d
| 7
5 B( i9 c9 d9 q3 U! U) K1 | | 愛德萬Advantest | 844.8 | 2.5 | 1,423.4 | -40.6 | 9+ n) S& j- X7 g5 E& q+ m3 Y' B- K
| 11' O2 h. f ^' v4 O$ J, l: E
| 泰瑞達 | 822.0 | 2.4 | 917.6 | -10.4 | 10! Q" M/ {/ C h' x
| 9. H& p8 `/ V$ N# C, M! i
| Nikon | 636.3 | 1.9 | 1,006.8 | -36.8 |
& g/ O- i6 t$ F, A | . L6 o) y x5 c# [+ L+ e
| 其他 | 10,243.5 | 30.3 | 12,296.1 | -16.7 |
% Q( D2 ~0 Y' A; X+ N5 o | ' d' |$ [- D4 _5 X' f8 E) c9 S [ I
| 總計 | 33,778.0 | 100.0 | 38,154.2 | -11.5 |
資料來源:Gartner (2014年4月) $ }7 B/ j; x8 F& S
Rinnen指出:「值得注意的是,前十大廠商的市占率更進一步成長到70%,反觀2012年為68%。前五大廠商即占了將近全部市場的57%,較去年成長五個百分點。這些大廠的進展象徵小廠在競爭當中失利,同時也意味著設備市場越來越依賴少數幾家廠商。」
( ?9 ?4 J o( v9 z- i" t# U2013年,晶圓級製造的表現優於市場,在乾式蝕刻、微影、製程自動化以及沈積方面顯得相對強勁。支出選擇性集中於升級與採購最新技術,產能增加很少。邏輯支出則集中於20奈米/14奈米製程的準備。僅少數子領域出現成長,最明顯的是微影領域的步進機(stepper)、非管式(nontube)化學氣相沈積法(CVD)、導體蝕刻(conductor etch)、快速熱處理與熱爐,以及某些製程控制領域(如晶圓檢測、瑕疵審核與分類)。 + y6 }7 D+ K9 b8 Y3 [
在後端製程領域,所有主要類別皆呈大幅衰退。2013年第四季尤為遲緩,因為主要半導體封裝和測試服務(SATS)大廠皆因市場不確定性而推延訂單。 |