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[問題求助] metal走45度角有什麽影響

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1#
發表於 2009-5-1 07:35:08 | 只看該作者 回帖獎勵 |正序瀏覽 |閱讀模式
各位大大,請教一下metal走45度有什麽影響呢?謝謝啦!
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23#
發表於 2016-1-19 22:25:50 | 只看該作者
大電流的地方就要45度5 `9 ~+ ~% G3 u
如果都是DC,那就免了
22#
發表於 2016-1-9 04:45:12 | 只看該作者
謝謝你們的分享  讓我學到很多
21#
發表於 2012-5-13 20:52:54 | 只看該作者
感謝大大分享經驗~~學到很多
20#
發表於 2009-11-19 18:43:14 | 只看該作者
在 IC Core 裡我不曉得, 但在 PCB 上 45度轉角 對降低 EMC 非常有效, 由其是在高速訊號下, 降低 EMC的產生, 試想 你以高速跑步 要轉灣時 如果90度轉彎 你會不會 偏出去?
19#
發表於 2009-11-18 20:54:42 | 只看該作者
一般foundry的设计规则里面都会规定你可以使用的走线角度。90度应该更常见些,综合考虑45度的优势还是没有它理论上的那么明显。
18#
發表於 2009-11-18 16:08:59 | 只看該作者
高頻電路才有差啦+ U* E3 R9 |2 ^, f. @
我同學做SAR ADC因為速度慢
4 e/ g/ s: [, R& r) K8 ^! p& z' K繞線其實有接到就好了
: v5 J* X2 ^2 n8 C& o0 W9 f直角繞線或是metal太細幾乎影響不大
3 A4 A  w4 J7 u! p) l. }做sheilding保護敏感的訊號比較重要
17#
發表於 2009-11-14 16:59:31 | 只看該作者
進來看一下
( B% I4 b3 H# Y. p! m) L* k8 J又學到好多事物/ ?0 u# E. |& M" k  N* h
第一次知道layout可以90度以外
5 K( u9 K9 t: U- Q  p7 i# |  j謝謝!
16#
發表於 2009-11-12 16:33:15 | 只看該作者
就這問題跟幾個朋友討論了一下6 \9 B' e, F+ F5 c) C: ~! @/ ~

8 u6 \* _8 T8 {/ e2 a得到以下結論, q# d) w+ i8 c3 ], [! f) @
' \2 L7 @, `0 m9 p* R- T4 b
目前的製程技術已經到哪邊了???3 _! g4 c; C- B3 O2 Y3 @: R: H
你所需要的製程技術是否需要???
* i2 N7 f0 m7 H( a* j! MDESING rule  都會注明是否可以使用45度角使用
. g8 {7 {6 ]. t2 ]4 P- J  K
' v4 I7 X9 W" V9 D9 \" K其實越先進的製程跟我們所LAY的圖已經差異很大了  
% t/ V* q& A/ @& J7 I! o
: X) U; {- K7 w9 h+ u我們可能拉一條線  FAB廠可能就用了好幾層光罩圖 去補強
9 i4 o% X/ d) ^
$ @' P, B4 U, E0 C" w9 _* K. }2 R( |+ m所以45度角的使用上也不至於這樣在意(高頻部份 我就不清楚啦)5 h* \; f+ c. {

  V4 Y6 c( A( F重點在於你的MOS對稱性 那是不會改變的6 o' j, b; D1 e1 b( q# e

8 J5 h  |2 a) ?$ J1 n如果對上述回覆有問題請多指教  謝謝
15#
發表於 2009-11-11 23:12:35 | 只看該作者
謝謝大大的分享,非常需要,GOOD!~~~
14#
發表於 2009-10-3 01:01:57 | 只看該作者
45度角
- a/ I% ^+ O# N6 K; Z- t1.DRC 檢查軟體運算時間++
8 x' |$ X4 c4 B  D' b# D6 A2.RC Extraction 不準 運算時間+++
9 a8 P" X1 n' F. P/ X8 J1 M) H3.P&R 時間 +++( D! f; U6 B& c/ d; r
4.最重要的原因 製程良率 ----
' m" O) Y7 b( F/ b
: D! j: m. F* ~( L% @# H( _Cadence在幾年前曾經被北大的團隊騙去搞 X architecture 最後市場 = 01 d( ~- R0 k" L( h4 [9 D; |
當年提出一堆"好處"後來證明是壞處更多
( w9 c3 B& @- Q3 E所以 90度角 還是證明他的價值存在) e( N  X9 x6 Z

8 m( m. z( Q2 ]  x( r至於上述的有人提到電流的 應該是指寬 metal 在 Analog IP 中使用的情況
6 c1 i" ^# n' Y6 h$ K0 c( p而且要求低階製程使用 ;在45nm以下使用非規律的pattern 都是在浪費錢
13#
發表於 2009-10-1 11:27:16 | 只看該作者
尖端放電  在現在的process  好像比較不會有
$ ~" d/ A. `2 ]+ o6 e+ e& z; w* q$ x+ y但是 45度斜角  有時是電流的關係
12#
發表於 2009-9-25 11:37:39 | 只看該作者
只要你可以避免OFFGRID 都沒問題9 ~% I, ~: q; Q* g; k
/ {9 ^" f8 X  \1 b' P: l2 ^0 Y# ]
OPTION  DISPLAY 裡面的  X Y 的spacing 大於 0.001 應該都可以 過  這也要看製程廠提供的RULE  你可以試看看
11#
發表於 2009-9-25 11:18:06 | 只看該作者
謝謝你們的分享  讓我學到很多  之後就LAYOUT就可以試試看
10#
 樓主| 發表於 2009-5-8 22:15:01 | 只看該作者
謝謝大大們的分享,感激涕零,在這裡真的能學到好多東西哦,尤其是我這樣的新手。
9#
發表於 2009-5-8 16:53:31 | 只看該作者
因為core cell本來就是用在處理digital signal, 結果不是0就是1, 不會有電流考量.' x3 I4 @* i) K5 c. Z' J
使用在APR如果timing model不準, tool會自動加buffer, 這也不是metal走45度角就可解的.
8#
發表於 2009-5-4 16:27:24 | 只看該作者

回復 7# 的帖子

在自动布局布线中,工具一般不支持
7#
 樓主| 發表於 2009-5-3 21:59:45 | 只看該作者
这么说来,45度角很有优势嘛,为什么在core cell中很少用呢?各位大大,帮我解答一下啦,谢谢!!!
6#
發表於 2009-5-3 19:36:55 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

没有,可以用135度转角尽量就使用!
5#
 樓主| 發表於 2009-5-3 11:57:51 | 只看該作者
謝謝!!!metal走45度對作mask有沒有影響呢?
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