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標題: 108/3/29~極紫外光（EUV）高反射鏡薄膜製程與應用人才培訓班 [打印本頁]

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作者: SophieWeng@G    時間: 2019-2-27 04:30 PM
標題: 108/3/29~極紫外光（EUV）高反射鏡薄膜製程與應用人才培訓班
晶圓製造進入7奈米製程後，極紫外光(EUV)扮演重要角色。然而EUV所遭遇到的一些問題包括光源、材料、鍍膜等，都影響廠商導入的時程，而高反射的鍍膜技術為重要的關鍵之一，本課程所邀請講師將針對EUV提供詳細的介紹及應用，歡迎雷射、鍍膜及光電相關應用廠商一起前來參與。

• 上課時間：2019/03/29(五) 09:30~16:30。
• 上課地點：台北市大安區復興南路一段390號9樓之4 (車輛公會會議室)
• 課程費用：一般學員NT$3000元，PIDA會員(ABC級)NT$2400元(或扣點數2點)
• 課程安排：
  

時間	課程內容	講師
09:30~12:30	極紫外光(EUV)薄膜製程技術 1.EUV薄膜光學 2.EUV真空鍍膜系統 3.EUV反射鏡薄膜製程與特性量測	蕭健男 研究員兼任組長 / 國家實驗研究院台灣儀器科技研究中心 真空組
13:30~16:30	極紫外光（EUV）在半導體與生醫領域的應用 1.極紫外光源產生原理及其同調特性 2.極紫外光光學元件 – 鏡片、半波帶片、KB反色鏡、光柵 3.極紫外光在半導體及生物上的應用	陳明彰 副教授 / 清華大學 電機系光電所

• 報名網址：http://www.pida.org.tw/SeminarNe ... px?SeminarCode=1970
  

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