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標題:
Layout佈線問題
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作者:
serenityjie
時間:
2013-6-11 07:31 PM
標題:
Layout佈線問題
大家好:
3 H+ v9 D2 {* |
0 b8 b7 R: v- W! r$ O% _: E
小弟最近在Layout佈線時想到一個問題，
. _* R |' C( a7 r9 j% L/ r
一般在做金屬導線連接時，
; S& z6 H& y) Y. T; R/ ^
應該是像圖一一樣，[attach]18482[/attach]
( v( ], U9 o/ N. e' L4 d. G
polysilicon與Metal line並無間隙，且需要部份重疊，
% R0 d* C; s: p0 x& c* x
利用Contact hole 將兩者連接起來，
; k4 {* t' p7 p" i8 Y% p9 I2 O7 o7 E
Contact hole是屬於垂直方向將上下兩個需相通的部分做連接，
" n+ G7 p) L1 w5 |+ d; V# Z
想請問各位前輩，
. C/ I$ M) Z: c b9 K9 N# t
若以圖二這種方式連接，[attach]18483[/attach]
$ ]" h) N' t, v) P$ q' i/ Z! N
polysilicon與Metal line之間不重疊，保持有一段距離，
) B, |, N" U1 ]5 b
再利用Contact hole 將兩者連接起來，把Contact hole當成導線的功能，
4 W) G a, d0 F- @0 N# }( f; b2 B
讓Contact hole具有垂直方向以及水平方向的連接，
3 C' ?; G( W f4 h6 {8 H
這樣可以嗎?
作者:
k200630901
時間:
2013-6-13 01:05 PM
會有current density的問題 去翻閱一下製程設計手冊，找一下current density在不同layer間的參數~
作者:
t1FP125
時間:
2015-8-24 08:04 AM
翻翻一下製程設計手冊
5 }3 @+ ~, @* L: f; W- S
翻翻一下製程設計手冊
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