Chip123 科技應用創新平台

標題: rfic设计中的 mos 的源级与衬底 [打印本頁]

作者: wwm101    時間: 2009-3-12 07:33 PM
標題: rfic设计中的 mos 的源级与衬底
请问在RFIC业界中,通常情况下,实际设计中 mos的衬底是接到原极 ,还是接到低电平(地)?
5 i! Z0 X' p% V1 K2 C, `! |谢谢!
作者: wwm101    時間: 2009-3-13 10:04 PM
没人回答吗?
作者: macrohan    時間: 2009-3-18 09:24 AM
如果是rfnmos或者rfpmos的话,由于是做在deep nwell中,衬底可以和source接到一起的,若是普通的mos管,substrate还是接到地好了,, \- j( ]: M  u3 ~0 ]2 D5 @
若接到source, layout会很麻烦。
作者: huliya53    時間: 2009-3-20 02:13 PM
RFMOS應該是直接接到源級吧,普通的就接地比較好lay
作者: wwm101    時間: 2009-3-21 06:39 PM
谢谢 你们的回答 谢谢




歡迎光臨 Chip123 科技應用創新平台 (http://chip123.com/) Powered by Discuz! X3.2